湿法刻蚀FICD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究.PDFVIP

下载本文档

628
0
约3.48万字
约 7页
2017-06-15 发布于天津
举报
版权申诉

湿法刻蚀FICD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究.PDF

1、本文档共7页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

湿法刻蚀FICD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究

第卷第期液晶与显示３１　１　　 Vol．３１　No．１　　　　　　　　　　　ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas 年月 q y p y ２０１６１　　　 Jan．２０１６文章编号: ( ) １００７Ｇ２７８０２０１６０１Ｇ００６７Ｇ０７湿法刻蚀FICD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究 ∗ , , , , , , 范学丽靖瑞宽翁超陈启省王晏酩肖红玺刘还平　 ( , ) 北京京东方光电科技有限公司北京１００１７６ : , , , 摘要随着高分辨率产品导入 TFTＧLCD阵列段各项参数范围越来越小工艺要求更为严格为了更好地管控湿法刻蚀 , ( ) 各项参数本文以湿法刻蚀 FICDFinalInsectionCriticalDimension均一性的影响因素及如何提高 FICD均一性为目 p . , ( 、、、、、、的进行研究首先通过对湿法刻蚀设备参数主要包括刻蚀液温度流量压力浓度 NozzleSlidin OscillationSeed g p ) , . , 、 , 刻蚀时间等进行试验验证各项参数对 FICD均一性的影响其次对沉积工序曝光工序以及产品设计等进行试验 . , 、、 , 获悉影响因素并进行改善通过对湿法刻蚀设备自身参数的调整如减少设备温度流量压力波动使参数保持相对稳 , , . 定状态可有效改善湿法刻蚀 FICD均一性 FICD的均一性可从１．０降低至０．５通过对湿法刻蚀设备参数进行试验 , . 并做相应调整湿法刻蚀 FICD均一性改善效果显著 : ; ; ; 关键词湿法刻蚀均一性　　 TFTＧLCD FICD 中图分类号: 文献标识码: : / 　　 A　　doi１０．３７８８YJYX００６７ Im rovementofetchin uniformitand p g y influencef