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4.真空蒸发和真空沉积 - 深圳市京泓威真空技术有限公司
5 真空蒸发和真空沉积
第5章 真空蒸发和真空沉积
翻译并摘选自Donald M. Mattox写的
Handbook of physical vapor deposition processing-film formation, adhesion, surface,
preparation and contamination control
司
公
目录 限
5.1 简介 有
5.2 热蒸发 膜 m
5.3 热蒸发源 o
薄 c
5.4 蒸发材料的输运 c.
空
5.5 蒸发材料的冷凝 a
5.6 蒸发材料 真 -v
5.7 真空沉积系统 h
泓 j
5.8 工艺监控 .
京
5.9 来自蒸发源的污染 w
市 w
5.10 真空沉积的优缺点
圳 w
5.11 真空沉积的应用
深5.12 气体蒸发和超细粒子
5.13 其它工艺
5.14 概要
第 1 页 共 24 页
深圳市京泓真空薄膜有限公司
5 真空蒸发和真空沉积
5.1 简介
真空沉积（或真空蒸发）是物理气相沉积的一种，来自热蒸发源的原子或分子不需和沉
积室内的残余气体碰撞就会直接到达基片。这种类型的 PVD 工艺需要相对较好的真空。虽
然据报道在 18 世纪中期采用油封活塞泵就可以进行溅射和溅射沉积，但是蒸发沉积不得不
等到 Sprengel 提供的水银真空泵的出现获得更高的真空才得以形成。1879 年爱迪生使用这
种泵获得了第一个碳灯丝抽气白炽灯泡，1887年Nahrwold 首次进行了真空沉积。而直到 1920
年真空沉积金属薄膜才开始普及。1935 年 Smakula (Zeiss O
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