清洗制绒设备 设备简介：主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前 ....docVIP

清洗制绒设备 设备简介：主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。2）工艺流程：上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3）设备采用龙门式机械手方式移动，其工艺时间可以自行调节，酸碱槽具有自动补液装置，可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。具有设备报警说明，报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案；4）标准工艺下产量：125mm×125mm、156mm×156mm、210mm×210mm的硅片，适用于投产厚度为160±30～200±30微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时。 平板式硅片清洗机 设备简介：清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用进口PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构，具有排风装置。独有的机械手设计使抓取定位更准确。注重人性化设计，可根据用户要求定制 LCD清洗腐蚀设备 .用于LCD清洗腐蚀本机设有内外两个清洗槽，内槽为酸洗槽，外槽为水洗槽，内外槽均装在隔离槽内，与底部和周围隔离。隔离槽底部倾斜，最低处设有排水管，隔离槽后设有排气装置。 半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗