p046雷射线性光学模组于退火制程应用研究黄建融-机械工业杂志.PDFVIP

雷射應用與積層製造技術專輯 beam module and verify the ability of the beam 關鍵詞(Keywords) shaping module by laser annealing processes of touch panel ITO film and IGZO TFT in this article. ．雷射退火 Laser annealing ．雷射結晶 Laser crystalline ．線型光束 Line Beam 1. 前言 ．陣列透鏡 Lens Array 軟性電子是科技產品未來的發展趨勢，其所 使用之基板多為高分子塑膠材料，如聚亞醯 摘要(Abstract) (polyimide, PI) 、聚萘二甲酸乙二醇酯(Poly Ethylene Naphthalate, PEN) 、聚對苯二甲二乙酯 本文以雙片式lens array 系統設計一線型光束 (Poly Ethylene Terephthalate, PET)等。這些材料因 模組，並配合雷射退火製程提升觸控面板之 ITO 無法承受高溫製程，因此只能於低溫製程下製作 film電性與 IGZO TFT 之電子遷移率，進而提升 元件，導致該元件之薄膜結晶性差、薄膜緻密性 元件整體特性以達驗證線型光束模組能力之目 差，造成其特性往往不如一般高溫製程下之電子 的。 元件。目前產業界改善此元件特性的方法，有轉 We use a two-piece lens array to design a line 印法、低溫熱處理法、電漿改質法等。轉印法此 46 │ │ 359 期 │ 雷射應用與積層製造技術專輯 乃先於耐高溫基板製作完成後，再將其轉印至軟 2. 雷射線型光束模組介紹 性基材，缺點是製程步驟變為更複雜耗時；低溫 熱處理法則在低溫下製作元件，但藉由延長時間 2.1 設計概念理論 以提升元件特性，如觸控面板使用之透明電極 雷射線型光束模組一般係指將傳統之圓形或 Indium Tin Oxide film(ITO film) ，將其退火時間延 矩型入射光束整型為線型光束，雷射線型光束模 長之 3 小時以上，以獲得較佳之電性，缺點是元 組在長軸方向以均化功能為主，而在短軸方向則 件產能下降而無法提升；電漿改質法則是以適當 以聚焦功能為主。達成此一功能之光學系統分為 之氧氣或氬氣電漿能量轟擊ITO 表面，使ITO 分 折射式、反射式與繞射式，本文將只針對本團隊 子具有足夠能量後得以類似熱處理退火之效果， 投入之折射式線型光束模組作一介紹。 提升結晶性，缺點是須在真空中才能達到較佳之 折射式光束均化整型系統之科勒照明(Kohler 效果。 illum