第四讲 薄膜材料的表征.pdf

第四章薄膜材料的表征 也称薄膜材料的研究方法 薄膜材料在应用之前，对其进行表征是 很重要的，一般包括薄膜厚度的测量、 薄膜形貌和结构的表征、薄膜的成分分 析，这些测量分析结果也正是薄膜制备 与使用过程中普遍关心的问题。 薄膜研究的方法很多，它们分别被用来研 究薄膜的结构、组分和物理性质。研究结 构的衍射方法包括X射线衍射、电子衍射、 反射高能电子衍射、低能电子衍射、氦原 子散射等。 观察显微图像的方法有：透射电子显微术、反 射电子显微术、低能电子显微术，利用微电子 束扫描而成的扫描电子显微术和1981年发明 的扫描探针显微术。材料组分分析方法主要有 电子束激发的X射线能谱、俄歇电子能谱、光 电子能谱、二次离子质谱(SIMS)、离子束的 卢瑟福背散射谱等。 对薄膜材料性能进行检测的手段很多，它们分 别被用来研究薄膜的结构、组分和物理性质。 随着薄膜材料应用的多样化，其研究手段和对 象也越来越广泛。特别是对各种微观物理现象 利用的基础上，发展出了一系列新的薄膜结构 和成分的检测手段，为对薄膜材料的深入分析 提供了现实的可能性。 第一节 薄膜厚度的测量 薄膜的厚度是一个重要的参数。 厚度有三种概念： 几何厚度、光学厚度和质量厚度 几何厚度指膜层的物理厚度。 表4.1 薄膜厚度测量方法 方法 测量范围 精度 说明 FET 3~2000nm 1~3nm 等厚干涉条纹（ ） 需制备台阶和反射层 光 等色干涉条纹（FECO） 1~2000nm 0.2nm 需制备台阶和反射层 学 VAMFO 80nm~10 m 0.02% 法 变角度干涉法（ ） μ 透明膜和反光衬底 测 CARIS 40nm~20 m 1nm 量 等角反射干涉法（ ） μ 透明膜 0.1nm~1 m 0.1nm 光偏振法 μ 透明膜 机 台阶仪法 2nm 0.1nm 需制备台阶 械 测 称重法 无限制 精度取决于薄膜密度的确定 量 法 石英晶体振荡器方法 至数微米 0.1nm 厚度较大时具有非线性效应 设备名称：NKD-7000W光学薄膜分析系统 (NKD－7000w System Spectrophotometer) 一、薄膜厚度的光学测量法 薄膜厚度的测量广泛用到了各种光学方 法，因为光学方法不仅可被用于透明薄 膜，还可被用于不透明薄膜，不仅使用 方便，而且测量精度较高。 这类方法所依据的原理一般是不同薄膜 厚度造成的光程差引起的光的干涉现象。 1．光的干涉条件 首先研究一层厚度为d、折射率为n的薄 膜在波长为的单色光源照射下形成干涉 的条件。 显然要想在P点观察到光的干涉极大，其 条件是直接反射回来的光束与折射后又 反射回来的光束之间的光程差为光波长 的整倍数。 图4.1 薄膜对单色光的干涉条件 薄膜对单色光的干涉条件 其中，N为任意正整数，AB、BC和AN 为光 束经过的线路长度（它们分别乘以相应材料 的折射