光刻系统用氟化钙晶体的研究进展-无机材料学报.PDF

第 卷 第 期 无 机 材 料 学 报 , 年 月 , 文章编号 一 一 一 光 刻 系统 用氟化钙 晶体 的研 究进 展 董永 军 , 周 国清 , 杨 卫 桥 , 苏 良碧, 徐 军 中 国科 学院 上 海 光 学精 密机 械 研 究 所 , 上 海 摘 要 解释 了氟化钙 晶体能被应用在 光刻 系统和掀起研 究热潮 的原 因, 概 述 了氟化钙 晶体 , 的研 究和发展现状 指 出了 目前氟化钙 晶体在研 究和 发展过程 中要解决 的重 要 问题和措施 , 最 后对氟化钙 晶体在光刻系统 中的发展 前景作 了展望 关 键 词 氟化钙 晶体 紫外 光刻 圳 半导体 中图分类号 文献标识码 引言 目前 , 氟 化钙 晶体 已经 成 为各 国研 究机 构研 究 的热 点, 掀起 了一股 半导 体工业 , 光刻 系 统 用 首选 材料 的研 究热 潮 现 在 大尺 寸 、 细 线 宽 、 高精度 、 高效 率 、 低成 本 的 工 生 产 , 对 半 导体设 备 带来前所未 有 的挑 战, 而 曝光 是 芯 片制造 中最 关键 的制 造 工 艺 , 由于 光 学 曝光 技术 的不 断创新 , 它 一再 突破 人 们预 期 的光 学 曝光 极 限, 使之 成 为 当前 曝光 的主 流 技 术 提 升 微 芯 片 的性 能需要 光 学 产 生更 细 的刻 痕 , 可是 现 在 芯 片 小 型 化