光电业去光阻制程废气处理改善成功案例介绍-经济部工业局产业资讯网.PDF

工業污染防治 第 126 期(Dec. 2013) 145 光電業去光阻製程廢氣處理改善成功案 例介紹 司洪濤* 、林連春** 摘要 國內高科技產業(如半導體製造、晶圓代工及彩色薄膜液晶顯示器製造光電業 等) 對去光阻製程排氣均積極進行回收與處理工作，目前業界多數採用冷凝 器 (condenser)將排氣中所含之VOCs 冷凝後回收冷凝液，然冷凝後之排氣送到最終 水洗塔仍有大量去光阻液(stripper)被洗滌下來，使得洗滌廢水之化學需氧量(COD) 值甚高，造成廢水處理廠之負荷過大，因此，冷凝器對 VOCs 之去除率遭受諸多質 疑。 本案例探討光電業去光阻製程廢氣中空氣污染物組成型態到係以 VOCs 或以 油霧(mist)為主，故就冷凝器與燭式過濾除霧器(candle filter/demister)兩種處理方式 做一比較測試。實際測試結果發現，在去光阻液空氣污染物去除率方面：廢氣中去 光阻液空氣污染物大部份皆以微細( ＜5 μm)顆粒的油霧型態隨廢氣排出，當利用冷 凝器處理該製程廢氣時，冷凝器可使廢氣中大部份水氣被冷凝出來，至於去光阻液 被冷凝出來的量反而比較少，廢氣中去光阻液的去除率約佔 15％，而使用燭式過 濾除霧器時，廢氣中去光阻液的去除率則可高達 85％～89％。在去光阻液回收經 濟效益評估方面：以測試製程廢氣處理量 20m3/min(CMM)而言，使用冷凝器僅可 回收去光阻液 0.41 kg/hr ，當使用燭式過濾除霧器時，卻可將去光阻液的回收率增 加至 2.218 kg/hr 。 146 光電業去光阻製程廢氣處理改善成功案例介紹 【關鍵字】光電、去光阻液、揮發性有機物、冷凝、燭式過濾除霧 *台灣肥料股份有限公司 高級專員 **上達國際工程有限公司 總經理 工業污染防治 第 126 期(Dec. 2013) 147 一、前言 國內高科技產業(如半導體製造、晶圓代工及彩色薄膜液晶顯示器製造光電業 等)大量使用微曝光顯影製程，其中去光阻程序(stripping process)所使用之去光阻剝 離液(stripper ：如TOK 106 、ACT 690 、N 300 、N 321 、ACT 935 等)主要成分為高 沸點有機化學物且幾乎全溶於水的有機化合物，如單乙醇胺(monoethanol amine, MEA) 、二甲亞碸(dimethyl sulfoxide, DMSO) 、二甘醇一丁基醚(diethylene glycol monobutyl ether, butyl-di-glycol ether, BDG) 、 1- 甲 基 -2- 酮 - 環 丁 胺 (N-methyl-2-pyrrolidinone , NMP)等，其物化特性如表 1 所示。然而在去光阻程序中 將因基板尺寸的越大化，而造成去光阻剝離液的大量揮發並逸散至排放管道中，若 不加以預處理將造成嚴重的空氣污染及影響後端空氣污染防制設備效能之虞。故國 內高科技產業對去光阻製程廢氣均積極進行回收與處理工作。 目前業界多數採用冷凝器(condenser)將廢氣中所含之 VOCs 冷凝後回收冷凝 液，然冷凝後之廢氣送到最終水洗塔仍有大量去光阻液(stripper)被洗滌下來，使得 洗滌廢水之化學需氧量值甚高，造成廢水處理廠之 COD 負荷過大，此外，經冷凝 產生之細小粒徑的化學液滴，若於最終水洗塔(scrubber)無法被洗滌下來時，尚可能 衍生白煙問題。因此，若能提出更經濟有效的去光阻製程廢氣處理方式，在廢氣端 源頭大幅增加有價 VOCs 回收量，將可協助高科技產業減少空氣污染物排放量及減 輕廢水處理成本。