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霍尔源用于光学镀膜 - 光子学报
32 10 Vol.32 No. 10
2003 10 ACTA PH T NICA SINICA ctober 2003
*
1 2 1 1 1 1
贾克辉 黄建兵 徐 颖 陈 红 高劲松 曹建
( 1, , 130022)
( 2 , , 201800)
报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标, 并从光学特性显微
特性和机械特性三方面着手, 研究了使用霍尔源所做的单层Ti 膜的成膜工艺与质量研究表
2
明,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高, 更加接近于块状材料, 膜层结构比传统沉积
手段更加致密, 附着力也很高 同时用此项技术沉积了金属增强反射镜,试验结果与理论设计结果
相符,达到了理想要求
无栅霍尔源; 光学薄膜; 等离子体辅助镀膜
4844 A
0
80,
,
[1]
(Kaufman) APS ,
[ 3,4] 图1 霍尔源工作原理
, ,
Fig. 1 perating principle of the Hall ion source
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APS, ,
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( ) , , ,, 5
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,,
[ 2,5]
3 A,
H-2 , 1 70~ 250 eV,500 mm
, 2
700 mm
, ,
2 TiO
, ( 2
) , ZZSX-1600 ,
K9
* - 4
中国科学院创新基金(ZJ00C04T) 资助项目 ,9. 110 Pa,
Tel:0431 5261561 Email:tramperjia@ 163. com , 25 sccm( 1sccm=
收稿日期:2002 11 25
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