APCVD法制备ZnO薄膜及其结构和光学性能的-BowenPublishing.PDF

- 11 - 光电性能。 进而改善薄膜的 ，合适的热处理制度有利于优化薄膜晶格结构 ，同时实验表明 。薄膜的重要技术参数 ZnO 备 法制 APCVD 响。其中衬底温度不仅影响衬底表面载流子迁移率，而且影响薄膜粒子的再蒸发，因此成为了 重复性好的优点。然而薄膜结构和光学性能受到源区温度，衬底温度，沉积时间，热处理制度等诸多因素影 ，均匀性好 ，具有沉积温度低 ，透明导电薄膜 ZnO 法制备的 APCVD ，相对于其他几种方法 。生成薄膜的技术 法是把含有构成薄膜元素的反应剂蒸汽及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应(APCVD) 常压化学气相沉积 。等[8]脉冲激光沉积法 、[6,7]磁控溅射法 、Deposition,CVD)Capor [5](Chemical气相沉积法 如化学 ，薄膜的制备 ZnO 各种常用的薄膜制备技术都可应用于 。[3,4]薄膜有力替代者之一 ITO 等优点成为了 来源丰富 ，污染小 ，具有成本低 ，[2]薄膜ITO(In2O3:Sn) 且相对于目前应用最广泛的 ，热稳定性和化学稳定性 薄膜以其良好的光电特性，较高的 ZnO 。其中，[1]电薄膜作为光伏产品的主要组成部分，也成为了研究热点 透明导 。太阳能电池板等光伏产品的种类和应用日益增多 ，玻璃 low-e ，随着节能减排观念日益深入人心 引言 n.ptimizatioOatticeL ystem;SreatmentTeatH emperature;TubstrateSZnO;APCVD; :KeywordsKeywords Keywords Keywords film.ZnOpreparedof optimization latticethetobeneficial wassystemtreatmentheat suitablethat resultsexperimental the Summarize 80%.than more is whichof transmissivity the region, visible the in permeability good has sample Glass/ZnO data; ℃ oxide zinc standard the to close are spacing and angle plane crystal diffraction the , 450 at best is ZnOof orientation preferred surface decreases;(002)then and first increases ZnOof size grain the temperature, substrateof increase the with structure, wurtzite hexagonal is parameters different under prepared being ZnO that: show Results spectrophotometer. UV-Vis and diffraction ray X by studied were film thinof properties optical and structure crystal on system treatment heat and temperature substrateof effect The substrate