国立彰化师范大学共同仪器中心电子枪真空镀膜系统对外服务办法.PDF

國立彰化師範大學共同儀器中心 電子槍真空鍍膜系統對外服務辦法 一、儀器名稱： 中文名稱：電子槍真空鍍膜系統 電子束蒸鍍系統 / 英文名稱：Electron-Beam Evaporation(E-GUN) 二、儀器廠牌、型號： Temescal Model Stih-270-2CK/2CKB 三、儀器簡介： 隨著半導體材料與製程技術的進步，使得光電與微電子 元件的效能皆不斷被提升且尺寸逐漸縮小，任何效能再 高、尺寸再小的元件都必須俱備電極端點來促使元件工 作，傳統應用於元件的電極材料包含鈦(Ti) 、鋁(Al) 、鎳 (Ni) 、鉑(Pt)與金(Au)… 等多種常見金屬。本機台的工作 原理主要是在高真空環境下，利用高能量電子束對金屬 靶材進行加熱，使其蒸鍍至試片表面與薄膜沉積，可提 供作為元件的金屬電極或相關金屬薄膜研究應用。電子槍真空鍍膜系統具備高能量功率密度， 提供多種金屬與氧化物材料蒸鍍，並具有連續性沉積功能與薄膜純度較高之優點，有利於元件 製作以及提昇研究發展性與方便性。 四、 放置地點： 進德校區藝薈館B1F ：奈米科技中心 五、儀器相關人員 ： 儀器負責教授 林祐仲 教授 (04) 7232105 ext. 3379 儀器管理人 蘇庭鋐 先生 (04) 7232105 ext. 3368 六、服務項目： 1.單層金屬薄膜蒸鍍。 2. 多層金屬材料蒸鍍，層與層之間需間隔30 分鐘。 七、 機台使用辦法： 本機台之使用為委託操作方式，由本中心指派合格人員代為操作儀器。 八、服務時間： 1. 本系統服務每週開放時段為週一至週五：AM10:00~PM5:00 。 2. 對外開放時段，若因設備維護或技術訓練等事宜，得暫停開放。 3.詳細開放時間逕洽儀器管理人。 九、申請辦法與規定事項： 1.請詳細註明欲鍍膜之厚度及種類。 2.申請服務最遲須於操作之 一周前提出，否則不予受理。 3.申請人先行與儀器管理人接洽委託操作事宜後，再行線上進行預約動作，經儀器管理者確認後 即完成預約。 4.取消預約最遲須於操作之前 3日提出，否則仍應按申請時段繳交費用。 5. 三個月內累積 2 次違規，停止預約資格 3 個月。 十、鍍膜規範： 1. 單次最大鍍膜厚度為 5 kÅ ，多層金屬材料蒸鍍，層與層之間需間隔30 分鐘。 2. 基於金屬靶材以及坩鍋價格昂貴，本中心不提供靶材與坩鍋，請預約者自行提供靶材與坩鍋。 3. 本中心可代為詢問金屬靶材與坩鍋價格。 十一、 其他相關規定及懲處： 1. 試片或基板不得含有毒性、腐蝕性、揮發性、磁性與水分。 2. 若試片準備不當造成真空系統污染或造成儀器損壞，則本中心視情節停止預約資格 3 至6個 月或永久取消預約資格，其所屬實驗室之主管應負賠償之責。 3. 未經許可私自帶走本中心任何物品者，提報指導教授與實驗室負責人另議懲處。 十二、 收費標準： 本校人員 校外學術單位 產業界 項目 1~2 小時 3 小時~ 1~2 小時 3 小時~ 1~2 小時 3 小時~ 費用 委託操作 1,000 元 500 元 1,500 元 750 元 2,000 元 1,000 元 1. 開機費用：校內 2,500 元；校外學術單位3,500 元；產業界4,000 元 2. 操作以 2 小時為計費單位，每一小時為一時段。 備註 3. 不足2 小時仍以2 小時計費。 4. 第 3 小時起，每2 小時作為收費單位。 5. 操作時間計算：破真空開始至試片取出，並完成真空抽氣為止。