电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间分布-华南师范大学学报.PDF

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电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间分布-华南师范大学学报

华南师范大学学报 (自然科学版 ) 2005年 5月 JOURNAL OF SOU TH CH INA NORMAL UN IV ER SITY 2005年第 2期         M ay 2005          (NA TURAL SC IENCE ED ITION )  No. 2 , 2005 文章编号 : 1000 - 5463 (2005) 02 - 006 1 - 06 电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间分布 蒙高庆 , 陈俊芳 , 向鹏飞 , 熊予莹 , 吴先球 , 符斯列 , 张茂平 (华南师范大学物理与电信工程学院 , 广东广州 51063 1) 摘要 :利用 L angm u ir探针诊断方法 ,得到了放电气压 01 Pa、射频 1356 MHz、功率 200 W 、加速栅压 - 200 V 和减速栅压 + 85 V 条件下 , 电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间密度分布 , 以及不同 放电气压和不同偏压下反应室内的等离子体密度分布. 通过对反应室中等离子体空间分布的分析 , 得到离子密度均匀区域 、合适的反应气压和合适的加速栅电压 、减速栅电压范围. 关键词 : TCP; L angm u ir探针 ; 电子束蒸发镀膜 中图分类号 : O434 14   文献标识码 : A THE SPA T IAL D ISTR IBUT IO N O F PLA SM A IN THE REAC TO R O F A N EL ECTR IC BEAM EVA PO RA T IO N D EPO S IT IO N D EV ICE M EN G Gao - qing, CH EN Jun - fang, X IAN G Peng - fei, X ION G Yu - ying, WU X iang - qiu, FU Si - lie, ZHAN G M ao - p ing ( School of Physic s and Telecommun ication s Engineering, Sou th Ch ina Norm al Un iversity, Guangzhou 51063 1, Ch ina) A b stract: The sp atial distribu tion of p la sm a in the reactor of an electric beam evaporation depo sition device had been m ea su red by a L angm u ir p robe. The device wa s op erated under the power of 200W , the discharge p re ssu re of 0. 1Pa, the excitation frequency of 13. 56MH z, the po sitive grid vo ltage of 85V and the negative grid vo ltage of - 200V. The den sity of p la sm a varied w ith diverse discharge p re ssu re and diverse b ia sed vo ltage on the grid s in the reactor had also been inve stigated. A fter the analysis of the s

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