电子束蒸镀机1（ElectronBeamEvaporation1）-微奈米科技研究中心.PDF

下载文档 降价啦

18
0
约3.88万字
约 29页
2017-06-25 发布于天津
举报
版权申诉
保障服务

电子束蒸镀机1（ElectronBeamEvaporation1）-微奈米科技研究中心.PDF

1、本文档共29页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

电子束蒸镀机1（ElectronBeamEvaporation1）-微奈米科技研究中心

NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page1 NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page1 電子束蒸鍍機 1 （Electron Beam Evaporation 1 ） ※ 此圖為本中心實驗室電子束蒸鍍機之外貌圖本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有，謹供列印閱讀，未經許可，請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the NSC Southern Region MEMS Research Center. You are very welcome to browse and print out the document. It is extremely illegal to copy any part of this document in any forms without permission! Document Type Title Document No. Edition Editor Date SOP Electron Beam Evaporation 1 12345-678 1 鄧吉雄 2003/06/12 NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page2 NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page2 目錄一、前言 ………………………………………………………...3 二、原理 ………………………………………………………...3 三、儀器型號及規格 …………………………………………...6 四、功能說明…………………………………………………...7 五、操作程序 ………………………………………………….14 鍍膜步驟( 完整實作)…………………..…….………………21 目前中心擁有的靶材種類 …………………….………….…28 參考文獻………………………….……………………….…29 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有，謹供列印閱讀，未經許可，請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the NSC Southern Region MEMS Research Center. You are very welcome to browse and print out the document. It is extremely illegal to copy any part of this document in any forms without permission! Document Type Title Document No. Edition Editor Date SOP Electron Beam Evaporation 1 12345-678 1 鄧吉雄 2003/06/12 NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page3 NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center Page3 一、前言所謂的物理氣相沉積（ physical Vapor Deposition ，通常簡稱為PCD ），就是以物理現象的方式，來進行薄膜沉積的一種技術。在半導體製程的發展上，主要的 PVD 技術，有蒸