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七、实验注意事项 （1）实验之前须认真阅读有关仪器的使用说明，理解仪器操作规程及其先后操作步骤的关系； （2）在开启直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积系统之前，需要确保冷却水已经打开； （3）实验结束后关闭水、电和气体。 八、思考题 （1）注意分子泵的开启时机，为什么刚开始抽真空不能直接开动分子泵？在对真空室进行通气时为何要关闭分子泵？ （2）热偶规管和电离规管的工作原理是什么？它们的量程范围是多少？ （3）等离子体是如何产生的？等离子与薄膜制备的关系？ （4）薄膜制备之前，为什么要对基片进行清洗？清洗主要有哪些方法？ 北京工业大学薄膜材料与技术实验室， 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室，/ 大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室，/lab-tecn.htm 北京科技大学高技术薄膜材料研究室，/materials/kxyj/f1.mht 吉林大学超硬材料国家重点实验室， /index.html 广州有色金属研究院材料表面工程研究所，/index.htm 相关资源链接： Thin Film Technology Research Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, http://diamond.kist.re.kr/DLC Center of Super-Diamond and Advanced Films (COSDAF), City University of Hong Kong, .hk/cosdaf Plasma laboratory, City University of Hong Kong, .hk/ap/plasma Nanofilm Technologies International Pte Ltd, Singapore, .sg/index.htm Plasma Physics Laboratory, University of Saskatchewan, Canada, http://plasma.usask.ca/pmpfacilities.php Institute for Materials Research, University of Hasselt, Belgium, http://www.imo.uhasselt.be/wbgm/research4.htm Electronic Devices and Materials, University of Cambridge, UK, http://www-g.eng.cam.ac.uk/edm/research/index.php 实验二 等离子体增强化学气相沉积方法制备类金刚石薄膜实验 一、实验目的 二、实验内容 三、实验仪器设备和材料 四、实验原理 五、实验方法和步骤 六、实验报告要求 七、实验注意事项 八、思考题 提纲： 一、实验目的 （1）通本实验使学生了解气体辉光放电的原理和 过程。 （2）使学生了解并熟悉直流辉光放电等离子体化 学气相沉积系统的结构和使用方法。 （3）掌握等离子体化学气相沉积薄膜的工艺原理 及在基片上沉积类金刚石薄膜的工艺过程。 二、实验内容 （1）高真空的获得与测量。 （2）等离子体的产生。 （3）设定实验工艺参数、利用直流辉光放电等离子体增 强化学气相沉积类金刚石薄膜。 三、实验仪器设备和材料 （１）试样： 玻璃基片、硅基片、氩气、甲烷、乙炔、氮气、丙酮、酒精。 （２）实验设备： 超声清洗器； 直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积系统。 直流辉光放电PECVD沉积系统示意图 直流辉光放电等离子体化学气相沉积类金刚石薄膜是利用高压直流负偏压（-1~-5kV），使低压碳氢气体发生辉光放电从而产生等离子体，等离子体在电场作用下沉积到基片上并形成类金刚石薄膜。 主要组件：真空室组件、直流电源、基片水冷加热台、窗口及法兰接口部件、工作气路、抽气机组（机械泵和分子泵）、阀门及管道、真空测量及电控系统。 四、实验原理 （１）化学气相沉积制备薄膜介绍 （２）直流辉光放电等离子体化学气相沉积 （３）类金刚石薄膜简介 ４.1 化学气相沉积制备薄膜介绍： 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）：利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应的途径生成固态薄膜的技术。 气体输入 强制对流 自然对流 气相扩散 表面吸附 表面反应 表面脱附 薄膜形成 气体传输与气相反应 气相沉积 化学气相沉积过程中的各个动力学环节: （１）气体放电： ４.２直流辉光放电等离子体化学气相沉积： 直流气体放电体系模型 （２）气体放电的伏安特性曲线： 阴阳极之间的电位降主要发生在负辉光区之前，维持辉光放电所必