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GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟

GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟/赵少云等 ·143 · GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟 赵少云,韦文生 (温州大学物理与电子信息工程学院,温州 325035) 摘要 利用Matlab编程模拟仿真了GaN/SiC异质结的正向恢复过程。讨论 了GaN/SiC异质结的模型,分析 了异质结的外因(外加电流变化率、温度等)及 内因(N区掺杂浓度、电子迁移率等)对异质结正向峰值电压和正向恢 复时间的影响,对比了GaN/6H—SiC、GaN/4H—SiC、GaN/3C-SiC三种异质结的正向恢复过程。结果表明,前述 内、外 因素对GaN/SiC异质结的正向恢复有明显影响,可通过调节各参数以优化GaN/SiC异质结的正向恢复过程。 关键词 GaN/SiC异质结 正向恢复 峰值电压 正向恢复时间 数值模拟 中图分类号:TN315 文献标识码:A DOI:10.11896/j.issn.1005—023X.2016.08.032 NumericalSimulationonForwardRecoveryBehaviorofGaN/SiCHeterojunction ZHAO Shaoyun.W EIW ensheng (CollegeofPhysicsandElectronicInformationEngineering,WenzhouUniversity,W enzhou325035) Abstract MatlabsimulationwasusedtosimulatetheforwardrecoveryprocessofGaN/SiCheterojunction. ThemodelofGaN/SiCheterojunctionwasdiscussed.Theeffectsofexternalfactors(changerateofexternalcurrent, temperature,etc.)andinternalones(dopingconcentrationofN region,electronmobility,etc.)ontheforwardpeak voltageandrecoverytimewereanalyzed.TheforwardrecoveryprocessofGaN/6H—SiC,GaN/4H—SiCandGaN/3C- SiCheterojunctionswerecompared.Thesimulationresultsshowthattheabovefactorsinfluenceobviouslyonthefor— wardrecoveryofGaN/SiCheterojunction.ForwardrecoverybehaviorofGaN/SiCheterojunctioncanbeoptimizedby selectingasuitablemateria1. Keywords GaN/SiCheterojunction,forwardrecovery,peakvoltage,forwardrecoverytime,numericalsimu一 】ation 压和体电阻电压两者叠加共 同作用的结果。Ma等模拟分析 0 引言 了二极管正向、反向恢复特性[2],通过建立集总电荷模型,模 功率二极管是重要的电子器件,其性能指标要求具有耐 拟得N--极管正 向恢复过程 ,分析 比较 了正向恢复电压与结 高温、击穿电压高、导通压降低、反 向恢复电流小、反向恢复 电压、体 电阻电压的关系。Ogata等主要研究了用于高频逆 时间短等特点。由于电导调制和少子存储效应,功率二极管

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