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光伏清洗设备培训详解，偷出来的保密资料  RENA InTex机器的操作手册 by Dr. Ihor Melnyk Axel Herguth 1. 一般规章 1.1使用具有腐蚀性的化学品时需要具备足够的防护措施，建议使用抗腐蚀的盖板、衣服、鞋、手套和护目镜。此外，需确保自己一旦发生事故的情况下，能找到适当的紧急喷淋冲洗设施。 1.2 决不在机器内单独工作。 1.3 不要打开或去除正在运行的设备盖板，因为其内部蒸汽为危险性的酸或碱。 2. RENA InTex机器正常操作的要求 2.1 化学供应和处理 2.1.1 RENA InTex设备正常运行情况下，要求稳定的供应HF—15（L/h）、HNO3—15（L/h）、HCl—5（L/h）、KOH—3（L/h）和DI water，这些数值可以随用量不同而变化。另外，建议备用HF—150L、HNO3—250L、HCl—75L、KOH—10L，提供给新化学槽使用。 2.1.2 对于使用传感器准确测量化学品的流量，至少要求7L/min的流量。对于使用化学槽处理，装载HF/ HNO3的刻蚀槽，其最大体积为550L。 2.2 压缩空气 2.2.1 对RENA InTex设备的Air Knifes规定的操作压力要求至少为4bar，Air Knifes不使用的情况下，压力需为6bar。 2.2.2 若Air Knifes的气压不足，刻蚀槽的HF和HNO3可能会发生反向流动，导致alkaline bath的刻蚀产生棕色污点，因此造成产品品质不良。 2.2.3 若Air Knifes 2和Air Knifes 3的气压不足，可能硅片没有被正确的吹干，因此将需要另外的清洁处理程序。 注：当Air Knifes动作时请确认所有的阀门都打开。 3. 旧的刻蚀槽处理 3.1 刻蚀槽 3.1.1 选取菜单为Manual etch bath Figure 1: Manual Etch bath: disposal of old bath 3.1.2 “mode man”，通过按按钮选择手动模式。 3.1.3 按下“system draining”（屏幕的左边），则刻蚀槽和储备槽（tank）的化学品都将被排掉。按该按钮需谨慎！ 3.1.4 等化学品排放过程完成后，屏幕上显示为“Empty”，为下面程序做好准备。 3.1.5 冲洗刻蚀槽和储备槽，按下“system rinsing”，两槽将充满水并开始循环。该程序可设定冲洗次数：“parameterparameter 2第三个栏位，屏幕的下边”。 3.1.6 冲洗之后将水排掉，保持刻蚀槽和储备槽为空。 Figure 2: Parameter Parameter 2 : Rinse time etch bath 3.2 Alkaline bath 3.2.1 选取菜单为“manual alkaline” Figure 3: Parameter Parameter 3 : Rinsetime alkaline bath 3.2.2 “mode man”，通过按按钮选择手动模式。 3.2.3 按下“draining”，则碱槽的化学品将被排掉。 3.2.4 等化学品排放过程完成后，屏幕上显示为“Empty”，为下面程序做好准备。 3.2.5 冲洗碱槽，按下“rinsing”，碱槽将充满水并开始循环。该程序可设定冲洗次数。 3.2.6 冲洗之后将水排掉，保持碱槽为空。 3.2.7 建议用水枪（在机器里，位于刻蚀槽边）手动冲洗盖子。 3.3 Acidic bath 3.3.1 选取菜单为“manual acidic” Figure 4: Manual Acidic: Draining and Rinsing 3.3.2 “mode man”，通过按按钮选择手动模式。 3.3.3 按下“draining”，则酸清洗槽的化学品将被排掉。 3.3.4 等化学品排放过程完成后，屏幕上显示为“Empty”，为下面程序做好准备。 3.3.5 建议清洁酸清洗槽，按下“rinsing”，该槽将充满水并开始循环。该程序可设定冲洗次数。 3.3.6 冲洗之后将水排掉，保持酸清洗槽为空。 3.3.7 建议用水枪手动冲洗盖子。 4. 更换刻蚀槽化学品HF/ HNO3 4.1 设备状态为：化学品仍然在刻蚀槽中和部分在储备槽（tank）中 4.1.1 更换选单为Manual etch bath 4.1.2 “mode man”，通过按按钮选择手动模式。 4.1.3 按下“change bath”，更换化学品HF/ HNO3。 4.1.4 刻蚀槽和储备槽将会排干化学品，然后两槽充满水开始清洗。可设定冲洗次数参数。 4.1.5 冲洗后水被排干，开始充填化学溶液，顺序为先DI water，再化