低温化学气相沉积两种DLC膜的摩擦性能研究.pdfVIP

助 材 舛 2012年第6期(43)卷 低温化学气相沉积两种DLC膜的摩擦性能研究 陈文刚1,2，葛世荣 ，张涌海 (1．中国矿业大学 机电工程学院，江苏 徐州 221116； 2．西南林业大学 交通机械与土木工程学院，云南 昆明 650224) 摘 要 ： 低温条件下在单 晶硅表面沉积 DLC膜和 层表面有大幅度的降低 。Bushan_l总结研究认为 ，在 Si—DLC膜层，采用UMT一2微摩擦磨损实验机研究了 MEMS装置表面所沉积的DLC膜具有低的表面张力 两种膜层的摩擦磨损特性 ，借助拉曼光谱 、X射线衍射 和高的表面接触角 以及低 的剪切强度，可以导致低 的 仪及立体三维形貌仪分析 了两种膜层的表面形貌和组 摩擦因数和黏着以及低的磨损。同时，很多研究者对 成。使用扫描 电子显微镜检测 了两种膜层磨损后的表 于沉积于不同表面DLC膜的研究中都发现 ，在基体表 面形貌。结果表 明两种膜层表面都非常平滑，属于纳 面沉积一层过渡层会增强 DLC膜的某些摩擦学特性。 米硬膜 ；两种膜层都具有 良好 的减摩托磨作用，其 中 但在单晶硅表面沉积过渡层无定形态的Si层 的研究 DLC膜层的减磨性能好于 Si-DLC膜，而 Si—DLC膜的 未见报道 ，因此本文采用低温 PECVD法在单 晶硅表 抗磨性能优于DLC膜。分析认为这是 由于具有 si过 面分别沉积 了DLC膜层和 Si—DLC膜层 ，并检测了二 渡层的DLC膜与硅基体的结合更为牢 固造成的，但其 者的抗磨减摩特性，取得了较为理想的研究结论。 同时促使 DLC膜的减摩性能降低。 2 实 验 关键词： 单晶硅 ；DLC膜 ；Si-DIC膜 ；摩擦磨损 中图分类号 ： TH117．1 文献标识码 ：A 2．1 实验原料及实验设备 文章编号：1001-9731(2012)06-0688—04 单晶硅 Si(100)；PECVD-2D等离子体化学气相 淀积 台；扫描 电子显微镜 S一3000N(日本 日立 HITA— 1 引 言 CHI)；三维立体形貌仪(MiaoXAM2．5X-50X)；原位纳 微电子机械 系统 (micro—electro-mechanicalsys— 米力学测试仪 Hysitron；拉曼光谱仪；UMT-2微摩擦 tem：MEMS)或称微型机械是机械科学技术 的前沿领 磨损试验机 (美国CenterforTribology公司)；X射线 域口]，具有体积小、质量轻 、能耗低 、集成度和智能化程 衍射仪 D／MAX—HIA(RigakuCorporation)。 度高等特点，在 当今社会得到 了广大研究者 的高度重 2．2 实验过程 视 。但由于 MEMS结构尺寸微型化以后，构件间的间 使用等离子沉积设备对单 晶硅表面进行溅射清 隙处在纳米量级 ，摩擦和黏着等摩擦学问题严重影响 洗 ，溅射条件为压力 lOOPa，功率 300W ，H。流量为6．0 了MEMS的可靠性_2]，较大程度上制约了其进一步的 ×10 ，溅射时间为 10min。沉积有过渡层 DLC膜的 发展和推广。 实验 中在清洗后单 晶硅首先进行过渡层的沉积 ，沉积 目前 ，随着 当今表面处理技术 的快速发展 ，对 的原料气体为 SiH 和 H ，沉积过程 中二者的流量分 MEMS功能表面 的防粘减摩的研究取得了长足的进 别为9．9x10 和2．0×10～，沉积温度为 25