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张旭海 等 ：基于三元镶嵌靶 的反应溅射沉积涂层成分模拟计算 文章编号 ：1001—9731(2014)增刊 (I)155—05 基于三元镶嵌靶的反应溅射沉积涂层成分模拟计算 张旭海，曾宇乔，蒋建清 (东南大学 材料科学与工程学院 江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室 ，南京 211189) 摘 要： 成分的有效控制是 多元涂层材料研 究和应 备要求较低，因而在实验和研究中被大量采用。但在 用 中的重点和难点。在反 应溅射沉积 Berg模 型基础 使用镶嵌靶溅射时，各沉积因素与成分之间关系复杂 上建立 了多元 镶嵌靶溅射沉积涂层 的成 分模拟方 法， (尤其在反应溅射过程)。要获得特定成分 的涂层，必 以 Ti、Al和石墨三元镶嵌靶为例 ，模拟 了靶材石墨含 须通过大量探索性试验来确定恰当的溅射工艺参数 ， 量及 N。分压对 TiA1CN涂层 中Ti／AJ原子比、C含量 这为基础研究和大规模实际应用设置 了巨大障碍 ，同 和 N含量的影响，并对引起成分变化 的内在原 因进行 时也对理论 建模 控制涂层成分 提出 了迫切需求 。为 了探 讨 。 此 ，本文以Ti、Al和石墨三元复合镶嵌靶反应溅射沉 关键词 ： 成分模拟 ；三元复合靶 ；反应溅射 积 TiA1CN涂层为例，在 Bergll模型基础上建立靶材 中图分类号： TB43 文献标识码：A (镶嵌靶)～ 涂层成分模型。通过理论模拟计算 ，系 DOI：10．3969／j．issn2014．增刊 (I)．035 统研究沉积参数和涂层成分之间的作用规律 ，为今后 1 引 言 涂层成分的设计和控制提供有效 的理论依据。 目前 ，磁控溅射沉积涂层 已在航空航天 、微 电子 、 2 数学模型和计算方法 太阳能 、生物 以及机械加工领域获得广 泛应 用。随着 2．1 模型设立和计算方法 涂层应用的不断深入，涂层成分 已由单元或二元向多 Berg针对反应磁控溅射过程建立 了一元靶理论 元化发展，例如 TiN或 CrN涂层 已扩展至 TiA1N1]]、 模型 ，并运用该模 型计算 出了反应气体流量和沉积速 TiSiN [ CrAlNF。】、 TiAlCNE 、TiA1SiNc11123、 、 率间的关系 ，较好地解释 了靶 中毒导致 的 “回滞现 CrA1SiNI_~3143等涂层 。在多元涂层研 究 中，成分是控 象”l1引。多元镶嵌靶在反应磁控溅射过程 中反应条件 制涂层结构及性能的关键 因素之一 。Hall[2认 为 相同，可视为多个外界条件相同的一元靶 。鉴于此 ，本 TiAlN中Ti／Al原子比为 1O：11时 ，涂层硬度最大 。 文在 Berg模型的基础上建立 了三元镶嵌靶模型，计算 Barshilial53研究 了 TiSiN 涂层 ，认为 Si含 量为 12 靶材成分比例、反应气体偏压对涂层成分的影响。 (原子分数)时涂层可获得最大硬度 。因此，成分的有 由Kenuson公式可知 ，在气压一定 的条件下 ，单 效控制是多元涂层材料研究和应用 中至关重要 的一