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射频磁控溅射法制备 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和力学性能研究
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薛增辉 等 射频磁控溅射法制备 TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能研究 ０７１１３
文章编号: ( )
１００１Ｇ９７３１２０１５０７Ｇ０７１１３Ｇ０５
射频磁控溅射法制备TiSiCN纳米复合膜的
微观结构和力学性能研究∗
１ ２ ３ ２ ２ ２ ２ ２
, , , , , , ,
薛增辉 李 伟 卢建富 刘 平 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华
( , ; , ;
１．上海理工大学 机械工程学院 上海 ２０００９３２．上海理工大学 材料科学与工程学院 上海 ２０００９３
, )
浙江金盾链条制造有限公司 浙江 诸暨
３． ３１１８１３
: . ,
摘 要 采用射频磁控溅射工艺在 基底上制备 沿晶界的滑移或成为薄膜变形的重要因素 因此 如
Si
, , ,
纳米复合膜 固定靶材中的 含量 通过改变 能抑制 纳米晶粒的滑移 则有望进一步提高
TiSiCN Ti TiN TiＧ
, .
和 的含量比沉积得到一系列薄膜 采用 射线衍 纳米复合膜的硬度
Si C X SiN
[,]
( )、 ( )、 ５８ ,
射仪 XRD 高分辨透射电子显微镜 HRTEM X 根据本课题组对 TiSiN薄膜研究的成果 结合
[]
( ) / ９ ,
射线光电子能谱 XPS和纳米压痕仪研究了不同SiC 白晓明等 关于增加纳米复合膜硬度方式的设想 采
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含量比对 纳米复合膜的微观结构和力学性能 用两相或更多相组合使晶界复合的思路 将 掺杂到
TiSiCN C
. , / ,
的影响 结果表明 SiC含量比对 TiSiCN纳米复合
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