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梁 戈 等：等离子体清洗工艺对镁基金属表面形貌及膜 ／基结合强度的影响 1127 等离子体清洗工艺对镁基金属表面形貌及膜／基结合强度的影响 梁 戈 ，李洪涛 ，蒋百灵 ，吴文文 ，张红军 ，杨 平 (1．西安理工大学 材料学院，陕西 西安 710048；2．陕西斯瑞工业有限责任公司靶材事业部，陕西 西安 710077) 摘 要： 采用不同等离子体清洗工艺对镁基金属样 备 (真空室系统示意图如图1所示)于不同等离子体清 品进行 清洗，随后磁控溅射沉积纯 Cr镀层。利用 洗工艺下对 AZ31镁合金基体进行 了等离子体清洗 ， SEM、划痕仪分析 了不 同等离子体清洗工艺下镁基金 并随后沉积 了纯 Cr镀层 ；其 中真空腔室直 径为 属的表面形貌与膜 ／基结合强度的变化 。结果表 明，过 450mm，靶材(阴极)与真空室侧壁(阳极)间的距离为 高的清洗偏压作用下，基体表面会产生深径 比0．5的 15mm，两个纯 Cr靶相对置于真 空腔室侧壁 。AZ31 孔洞状结构缺陷；过长清洗时间后 ，离子轰击产生的能 镁合金试样 (30mm ×30mm×5mm)放置于二轴旋转 量积淀效应使基体表面温升显著 ，局部 区域 出现熔融、 的工件架上，随着工件架公转 (5r／min)样 品进行 自转 ， 烧结现 象，二者均使后续沉积镀层结合强度变低 。 靶基距恒定为 120mm；溅射纯 Cr靶材尺寸为 300mm 关键词： 等离子体清洗 ；镁合金；表面形貌 ；结合强度 ×100mm×8mm，由陕西斯瑞工业有限责任公司靶材 中图分类号 ： TB43 文献标识码 ：A 事业部提供 ，靶材纯度为 99．99 。 文章编号：1001-9731(2011)06-1127一O3 1 引 言 轻量化进程的加快对镁合金的表面性能提出了新 的要求 ，当前以微弧氧化技术为代表 的各种镁合金表 面处理技术均以提高其耐腐蚀性能为主 旨L1]，若镁基 金属部件的表面兼具高硬度和低摩擦系数等性能，则 可在高端市场领域 (高速纺机、高速打印机等)拓展镁 合金的应用空间。磁控溅射离子镀技术因具有高速低 Cr亿 温 、均匀灵活、重复性好等特点已成为一种主流的镀膜 图1 真空室系统示意图 技术[3 ；基于该技术制备的Cr／C、MoST等镀层在工 Fig1Schematicofvacuum chamber 业化生产 中具有广泛的应用，其 中Cr／C镀层因含有 在等离子体清洗工艺和纯 Cr镀层沉积过程 中选 非晶物理混合界面层和 Cr金属打底层致使其具有高 用高纯Ar气为溅射气体，真空腔室本底真空度为 4．0 的结合强度 ，与其 良好的摩擦学特性相结合而成为各 ×lO～Pa，Ar气流量恒定为 15mL／min，保持工作压 种高速滑动部件优先选用 的一种优异耐磨减摩镀 力为 2．0×10_。Pa；等离子体清洗阶段两个 cr靶 电流 层L7 。然而 ，由于镁合金 自身 的低熔点、高活性等特 均为 0．3A；沉积纯 Cr镀层时 2个 Cr靶电流均为2．5 点，基于各种真空镀膜方法沉积于镁基金属基体上的 A，基片偏压 120V，沉积时间 10min。 耐磨减摩镀层均较容易脱落 、结合强度较低 ，使得镁基