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  • 2017-08-10 发布于天津
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斜切衬底自组装模板形成机制及生长有序量子点的研究进展.pdf

斜切衬底自组装模板形成机制及生长有序量子点的研究进展

· 8 · 材料导报A:综述篇 2015年 11月(上)第 29卷第 11期 斜切衬底 自组装模板形成机制及生长有序量子点的研究进展 张 璋 ,王荣飞,杨 杰,王 茺,杨 宇 (云南大学光电信息材料研究所 ,昆明650091) 摘要 在斜切基片表面上引入原子台阶并对物理表面进行改性,可提高表面吸附原子的成核率及抑制量子点 的合并,实现三维量子点在Stranski—Krastanov(S-K)模式生长的调控生长。概述了斜切基片法在 si衬底上生长有 序量子点的研究进展;介绍了斜切基片作为图形衬底生长有序量子点的应用。叙述 了斜切基 片产生台面、台阶和扭 结的图形衬底结构机制及影响因素,探讨 了台阶模板形成机制及台阶模板上生长量子点的研究进展。 关键词 斜切衬底 台阶 自组装模板 有序量子点 中图分类号:0484.1 文献标识码:A DOI:10.11896/j.issn.1005—023X 2015.021.002 ResearchProgressofGro

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