金纳米粒子作掩模的硅纳米柱阵列的加工 - 上海交通大学.pdf

第 !期 微细加工技术 45! ##$年 月 %’()*+,(’+-).-/’0.)1)23 *675，##$ 文章编号：!##=:@!=（##$）#!:##;:#; 金 纳 米 粒 子 作 掩 模 的 硅 纳 米 柱 阵 列 的 加 工 赵保军，王8英 #，张亚非 （上海交通大学 微纳科学技术研究院 微米B纳米加工技术国家重点实验室 薄膜与微细技术教育部重点实验室，上海 !##=#） 摘要：利用 自组装的方法在硅基片表面形成一层均匀的金纳米粒子掩模 ，分析 了偶联剂对 自组装 的 影 响，以金纳米粒子作掩模进行反应离子刻蚀 ，研究了刻蚀 时间对硅纳米柱 阵列的影 响，提供了一 种简单 、便宜并且有效 的在硅基底上大面积形成纳米柱 阵列 的纳米加工方法 。实验中发现 ，超过 一定刻蚀时间时，有过刻蚀现象发生 ，在 !#C刻蚀 时间下，得到了直径小于 #DE，深 宽 比高达 !# F!以上规则、致密 、大面积分布的硅纳米柱或硅纳米锥状结构。 关8键8词：自组装；金纳米粒子；纳米柱阵列；反应 离子刻蚀 中图分类号：-.888文献标 识码：+ 的纳米结构 ，近年来兴起许多在基底上形成纳米 点 !引言 阵的方法，其中包括 自组装法、旋涂法、嵌段共聚物 分子模版辅助法、1,拉膜法等 。通过这些技术在基 传统 的光刻技术能够很好地控制纳米 点阵的尺 底表面制备各种纳米 点阵，经过刻蚀加工 ，可 以获得 寸、形状和距离等，但是 由于所 需设备非常 昂贵、生 各种纳米图形及纳米 阵列 。本文重 点介绍了用 自组 产效率低 ，并且由于受光刻光源波长等方面 的限制， 装纳米粒子作模版构造纳米 图形 的方法，该方法简 其最大分辨率（约 !##DE）难 以提高［!］。有文献报 单 、成本低 ，并且可有效地在硅基底上大面积形成纳 道，将硅纳米柱用做场发射器件的电极 ，可 以大大降 米点阵或纳米柱 阵列 。 ［］ 低开启电压 ，并使器件尺寸缩小 ；如果将 其用于 自组装法是近年来发展起来的一类新型 的加工 光发射器件，其量子 限域效应能够极大地增强光发 制造技术，有着广阔的应用前景，引起了人们广泛 的 ［=］ 射器件的发光效率 ；而应用在传感器技术 中可增 研究兴趣。通过 自组装技术构造 的纳米材料薄膜 ， 加传感器 的灵敏度。纳米 阵列结构很容 易通过 电、 按照纳米粒子与基底 的结合方式的不同可分为化学 ［ ］ 磁、光等外场实现对其性能的控制，从而使其成为设 吸附 自组装薄膜 和静 电结合 自组 装薄膜 。前者 计纳米超微型器件的基础［;］。 目前 ，有序纳米结构 是指溶液中某些特殊分子 自发性地吸附到特定的基 材料 已经在磁记录、光 电组件 、传感器 、多相催化等 材表面 ，利用特殊的官能 团和表面进行化学反应而 许多领域开始得到应用 ，并存在 巨大的应用 、开发潜 吸附在表面上，从而在基底表面形成规则 的单分子 力 ，因此开发成本低、操作简便、可批量生产 的纳米 膜 。而后者形成薄膜 的驱动力是带相反 电荷 的组分 ［9］ 图形的制备方法具有重大意