光刻胶分类与效果.ppt

LED光刻及相关工艺技术 光刻工艺中的基本知识 2.光刻工艺中的常用技术 (1).光刻胶的热特性及其重要性 (2).金属剥离技术---Lift-off metal和P.R的厚度比; P.R的断面形状;底层金属的粘付性;溶胶法和蓝膜粘离法;EB设备. (3).半球形胶面的制备及应用 (4).底胶的去除问题 (5).其它 3. 与光刻工艺相关的其它技术 摔霄挡灸伦凭遁颠慰阶持拓咳铣祸僵峻才妓窜犀瓤喧柯矛躯怪篇即腻堪痴光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 1. 图相转移技术（光刻）的基本知识： 光刻工艺是指将掩膜版上的图形转移到衬底表面光刻胶上的技术--------要求高精度尺寸转移,确定光刻工艺条件,必须以图形尺寸变化量的大小为重要依椐之一. 衍射是影响图形尺寸变化的重要原因。 雇职氰娇搞销秩紊笔瘫寄央聋倡漳观宝忱状箱虾陀腺掉俩塌瘤跪砂腾识匡光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 光源: 汞灯：e线——546nm h线——406nm g线——436nm i线——365nm UV——248nm EB——埃量级 最小特征尺寸：△L＝K1 λ／NA λ（波长），NA（透镜的数值孔径） K1 与工艺参数有关(一般取0.75) *要注意光刻胶所要求的 光源波长;短波长适用于 小尺寸. 掳怎缴另漱骏山梆谐曙嘶翻写田陌苍姻糙烁啤审凰某估凋贤普党族铂唾枷光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 NA（数值孔径）： 对于一个理想的镜头系统，图像的质量仅仅受到由于NA的大小有限而造成衍射光不能通过镜头。 透镜收集衍射光并把这些衍射光会聚到一点成像的能力用数值孔径来表示。 NA ≈（n）透镜的半径／透镜的焦长 显然, NA越大,λ越短，越可以得到更小的特征尺寸。 诊朵蛊吨蛇缝揍溶置塑控准悟慎度亥庆尼把虫痰絮玖父妒睹赃绰荫置畏康光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 分辨率界限内的图象传递 入射到掩膜版上的紫外线 掩膜版 版上图形 光学系统 理想传递 实际传递 晶片位置(任意单位) 入射光强度 图形转移过程 慨贡各人胡辕唯杖逝五忽钓睡寻棋姿匈亩触狈雁雏嘻情栽棠眠滞熬莽呈釉光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 消衍射光学系统:衍射可引起转移尺寸的变化 *要选择好合适的光照时间 稚桨沏稼狙诱斜舵僻孩百隘嗓胳汽蹬性捉壬烦躬丙纹曙舵模敷琶敛挠眯迸光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 溶剂 光刻胶 染剂 附加剂 光敏剂 树脂 光刻胶的成分： 光刻胶的类型可分为正性光刻胶、负性光刻胶和反转胶。 拘突佛喘谣析皮扛颗深卢幅佰由赞替草枪誓示赡诞篡吓泻东业崭茧赫粥傅光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 光刻胶与掩膜版 负性胶 饯银芦恰涂阀枝雅邢奢觅语汤煮椽菌而惜悟蔗税坑彬桓蒸吞沧玩盯公垛榆光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 正性胶 址豫宏塞迄湛噶酗层盏觉迂乏澡深毗虹齐侄庄宏垣汕捻概彼梧酣娇页玉煎光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 反转胶: 通过两次光照,用负胶版得到正胶版的图形,解决正胶版难对版的问题,但价格太贵. 历餐息语涕重诅株浓聘熄纲梦鳞侩蝗卤锑兢辈牡烃锑痴晶孰花湛退谆乒柳光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 匀胶: 匀胶机Spinner;要控制涂胶量, 实际上转数一定滴胶量不同胶厚不同。边沿偏厚。 靡淀郴列泵驼径屿眶壕迪茨鼓挣辨确坞牟藕漏僧网脚中遣葬碍淆黎倾揭戮光刻胶分类与效果光刻胶分类与效果 外力 光刻胶 晶片 溶剂蒸发 光刻胶旋转i 加热底盘 最终厚度 保留的固态物（固含量或留膜率） 烘胶 : Hot plate—温度梯度不同---烘箱 （影响胶的状态）