2、全方位浸没离子注入 将注入的工件置于等离子体中,加上负电压,于是等离子体中的正离子则奔向工件而注入到工件表面。 特点:全方位离子注入,可加工复杂的工件。 3.工业用强流金属离子注入机(MEVVA源) 美国伯克利实验室工业用金属MEVVA源注入机,束斑直径0.5m,引出电压50KV,最大脉冲束流可达7A,平均束流强度50~100mA 北师大工业试验用MEVVA源离子注入机束斑直径0.2~1m,引出电压30~70KV,平均流强0~50mA,靶室直径大于2m. MEVVA源离子注入机的优点: 设备结构简单 离子种类多,几乎所有的导电物质 多电荷态,低电压可获高能量,不需要专门的加速系统 束流大,宽束 纯度较高,不需要分析器 可做多元素同时注入 国产多功能离子改性注入机 无分析器 气体 金属 辅助 溅射 四种离子源 一台好的离子注入机所满足的条件: ⑴合适可调的能量范围: 50~400KeV (掺杂) 1~3MeV (分析、高能注入) 100~300KeV (注氧机) ⑵合适的束流强度 对半导体、离子束分析:1μA~100μA 对SOI材料:几十~100mA 对材料改性:几mA~100mA ⑶良好的均匀性 不均匀性在1%以下 ,一般达到0.7% (对材料改性无此要求) ⑷合适的离子种类 对Si: B, P, As
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