二氧化锆薄膜表面粗糙度的研究 - 应用光学.PDFVIP

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2017-07-03 发布于天津
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二氧化锆薄膜表面粗糙度的研究 - 应用光学.PDF

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二氧化锆薄膜表面粗糙度的研究 - 应用光学

第卷第期应用光学 $z ) !Pa,$z NP,) 年月 $## - ~Pnd2TaPb8rraSYk7rcS‘Z ~na,$## 文章编号!##$%$#$’$##(#)%#*#*%#) 二氧化锆薄膜表面粗糙度的研究 +$ $ 潘永强吴振森杭凌侠罗廷 + + + 西安工业大学光电工程学院陕西西安 ’, + -##.$/ 西安电子科技大学理学院陕西西安 $, + -##-( 摘要采用电子束蒸发工艺利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪研究了不同基底粗 ! + + 糙度不同二氧化锆薄膜厚度以及不同的离子束辅助能量下所沉积的二氧化锆薄膜的表面粗糙 0 度结果表明随着基底表面粗糙度的增加二氧化锆薄膜表面粗糙度呈现出先缓慢增加当基底 1 ! + + 的粗糙度大于后呈现快速增加的趋势随着二氧化锆薄膜厚度的增加其表面均方根粗糙 #23 / + 度先减小后增大随着辅助沉积离子能量的增加其表面粗糙度呈现出先减小后增加的 ’ ( / + 456 趋势1 关键词二氧化锆薄膜表面粗糙度离子束辅助沉积离子能量 ! / / / 中图分类号! )), 文献标志码! 7 8 $ 9:;=?@;ABCDEA;FG?E@@BHAI :GJ?BJKL@ +$ $ % + % + % + M8N OP2QRST2Q UV WXY2ZY2 [8N\ ]S2Q^ST ]V7 _S2Q ’, + g + g -##.$+ / 6‘XPPaPbMXPcPYaY‘cdS‘e2QS2YYdS2Q fST2_Y‘X2PaPQS‘TaV2ShYdZSci fST2 jXS2T $, + + g -##-+ ( 6‘XPPaPb6‘SY2‘Y fSkST2V2ShYdZSci fST2 jXS2T ! ’ ( lm@:ACD: _XYZndbT‘YdPnQX2YZZPbWSd‘P2Sn3 P^SkY Wd7 cXS2bSa3ZoScXkSbbYdY2cc