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(19
)中华人民共和国国家知识产权局 I∥∥一 一一I 一一一―一 一一一 一―
Ⅷ 剁 D (12)发明专利
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(10)授权公告号 CN 101235159 B
(45)授权公告日 2013. 08. 28
(21)申请号 200710305778. 3 (56)对比文件
13.
CN 1449574 A, 2003. 10. 15 权利要求1-
(22)申请日 2007. 09. 28
US 6280696 Bi,2001. 08. 28,说明书第5栏
(30)优先权数据
第29 行一第7 栏第 5 行.
2006-263938 2006. 09. 28 JP
审查员 韩晓洁
2007-026282 2007. 02. 06 JP
(73)专利权人富士胶片株式会社
地址 日本东京都
(72)发明人水岛康博 坂牧聪
(74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任
公司11021
代理人张成新
(51)一nt一CI .
C081 11/02(2006. 01)
C08J 5/18(2006. 01)
权利安求书2页 说明书21页 附图3页
(54)发明名称
高熔点化合物的去除方法和装置、溶剂回收
方泫和溶剂回收装置
(57)摘要
一一 cr1
I24
本发明提供高熔点化合物的去除方法和装
置、溶剂回收方法和溶剂回收装置O →种延迟降低
剂去除牛产线包括换热器,空气供给管线和清洗
!- 亡
; 土 蚜 … {
液供给管线O 清洗液供给管线将清洗液送入第→
通道室n 空气供给管线将包含有高熔点添加剂的
干燥后空气和包含低熔点添加剂的含添加剂的牢
气的混合窄气送入第」通道室0 由丁混合牢气与
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