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(19 )中华人民共和国国家知识产权局 I∥∥一 一一I 一一一―一 一一一 一― Ⅷ 剁 D (12)发明专利 匦 (10)授权公告号 CN 101235159 B (45)授权公告日 2013. 08. 28 (21)申请号 200710305778. 3 (56)对比文件 13. CN 1449574 A, 2003. 10. 15 权利要求1- (22)申请日 2007. 09. 28 US 6280696 Bi,2001. 08. 28,说明书第5栏 (30)优先权数据 第29 行一第7 栏第 5 行. 2006-263938 2006. 09. 28 JP 审查员 韩晓洁 2007-026282 2007. 02. 06 JP (73)专利权人富士胶片株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人水岛康博 坂牧聪 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司11021 代理人张成新 (51)一nt一CI . C081 11/02(2006. 01) C08J 5/18(2006. 01) 权利安求书2页 说明书21页 附图3页 (54)发明名称 高熔点化合物的去除方法和装置、溶剂回收 方泫和溶剂回收装置 (57)摘要 一一 cr1 I24 本发明提供高熔点化合物的去除方法和装 置、溶剂回收方法和溶剂回收装置O →种延迟降低 剂去除牛产线包括换热器,空气供给管线和清洗 !- 亡 ; 土 蚜 … { 液供给管线O 清洗液供给管线将清洗液送入第→ 通道室n 空气供给管线将包含有高熔点添加剂的 干燥后空气和包含低熔点添加剂的含添加剂的牢 气的混合窄气送入第」通道室0 由丁混合牢气与

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