国内外磁控溅射靶材的研究进展 - 表面技术.pdf

表面技术 第45 卷 第 10 期 ·56 · SURFACE TECHNOLOGY 2016 年10 月 国内外磁控溅射靶材的研究进展 陈海峰，薛莹洁 （陕西科技大学 机电工程学院，西安 710021） 摘 要：磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点而被广泛应用于各种薄膜制造中，如单层或复合 薄膜、磁性或超导薄膜以及有一定用途的功能性薄膜等，在科学领域以及工业生产中发挥着不可替代 的作用。在介绍磁控溅射原理的基础上，阐述了靶材刻蚀机理，针对传统磁控溅射系统中靶材利用率 低、刻蚀形貌不均匀等现状，从改善靶面磁场分布和模拟靶材刻蚀形貌两方面对国内外最新的研究进 展进行总结与分析。研究表明，通过改变磁体的空间布置或增加导磁片能有效改善靶面磁场分布，采 用适当的运动部件实现磁场和靶材的相对运动能有效扩展靶材的溅射面积，提高靶材利用率。在靶材 刻蚀模拟中，通过改变溅射过程中的工艺条件（磁场强度、工作电压等）来研究靶面等离子特性，结 果显示靶材刻蚀形貌会随着磁场强度的增加而变窄，靶材刻蚀速率会随工作电压的增大而增大等，这 些研究成果对磁控溅射工艺参数的优化具有指导意义。最后，对靶材冷却系统的设计、靶材表面处理 等对溅射过程的影响进行了简要展望。 关键词：磁控溅射；靶材刻蚀；结构优化；计算机模拟；等离子体特性；靶材冷却 中图分类号：TG174.442 文献标识码：A 文章编号：1001-3660(2016)10-0056-08 DOI ：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.009 Research Progress of Magnetron Sputtering Target at Home and Abroad CHEN Hai-feng , XUE Ying-jie (School of Mechanic and Electronic Engineering, Shaanxi University of Science Technology, Xi′an 710021, China) ABSTRACT: Magnetron sputtering is widely used in manufacturing thin films such as monolayer or composite thin films, magnetic or superconducting thin films as well as some functional thin films for certain purposes, and plays an irreplaceable role in various industrial fields due to low sputtering temperature and high deposition rate. Magnetron sputtering plays an irreplacea- ble role in the field of science and industrial production. By illustrating etching mechanism of target based on introduction of magnetron sputtering principle, the work aims to summarize and analyze latest research progress at home and abroad from the aspects of improving magnetic field distribution on target face and