磁控溅射法制备镍热敏薄膜的工艺研究.pdf

第 31卷第 5期 西 安 工 业 大 学 学 报 Vol_31No．5 2011年 lO月 JournalofXianTechnologicalUniversity 0ct．2011 文章编号： 1673—9965(2011)05—409—04 磁控溅射法制备镍热敏薄膜的工艺研究 马卫红，翟于嘉，蔡长龙 (iN安工业大学 光电工程学院，西安 710032) 摘 要： 为了提高用作红外探测器敏感材料的镍膜的性能，采用直流磁控溅射的方法在载玻 片上制备测辐射热计的热敏感薄膜一镍膜，靶材选用高纯镍 (99．99 )．采用四探针 电阻特性测 试仪测试了所制备的镍热敏薄膜在不同温度下的方块电阻，根据测试曲线计算薄膜的电阻温 度系数 (TemperatureCoefficientofResistance，TCR)．研究了工作气压、氩气流量 以及溅射功 率对镍膜TCR的影响．实验研究表明，当溅射功率为225W，工作气压为 lPa，氩气流量为 120sccm，溅射时间为 3min时，制备 出的镍膜方阻为 2．9a／口，TCR为2．3×10 ／K． 关键词：镍膜；直流磁控溅射；工艺参数；电阻温度系数(TCR) 中图号： TB43 文献标志码 ： A 随着国防军事，以及民用等诸多领域的需要， 较高而稳定的电阻温度系数，材料资源丰富，容易 红外传感器技术正受到越来越多的重视．红外探 加工，价格便宜，与微电子工艺兼容等优点[5明．制 测器发展的方向是非制冷、低成本以及小型化．测 备热敏薄膜的方法不同，所制备出的薄膜性质也不 辐射热计红外探测器是主流的低成本非制冷红外 同．目前制备热敏薄膜常用的两种方法是真空蒸发 热探测器之一，具有动态范围大，响应线性度好、制 和磁控溅射__6j．真空蒸发法所用的设备较简单，操 造成本低等优点，且无需斩波[1_3J．在汽车辅助驾 作方便，沉积时真空度较高，薄膜的质量较好，沉积 驶、保安监控、火灾预防、疾病监控等民用领域和导 速率较快．但所沉积薄膜杂质较多，膜层不够致密， 弹制导、火控、瞄准：侦察、搜索和预警等军事具有 容易出现针孔，薄膜的附着性也不够好．而磁控溅 广泛的应用前景和市场需求．我国在非致冷红外探 射法可使薄膜与基片的附着力增强，膜层致密，均 测器研究方面起步较晚，主要集中研究在薄膜制备 匀性好，表面粗糙度较小，重复性好，有利于减小薄 和线阵器件的制作，总体科技水平与发达国家还有 膜 电阻率，提高TCR，因此，相对于真空蒸发，磁控 一 定的差距．由于红外成像系统可以用于军事领 溅射更适合进行金属热敏薄膜的制备． 域，国外特别是美国一直都对中国实施技术封锁， 对于金属材料，金属载流子的迁移率随温度上 很难通过正常渠道购买到大批量红外焦平面．目 升而下降，所以其 TCR为正，即电阻随温度的增 前，焦平面阵列技术已经成为限制我国红外技术发 加而增加，电阻变化用 电阻温度系数 TCR描述为 展的关键制约因素之一． TCR = 1 (1) 热敏感薄膜作为微测辐射热计的核心部分，材 料可以是金属也可以是半导体，半导体材料中，最 其中R 和R 分别为温度为 丁1和 时薄膜的阻 常用的是氧化钒_4j，但氧化钒带来较高的电阻温度 值．从式(1)可以看出，电阻温度系数TCR的高低 系 数 (TemperatureCoefficientofResistance， 直接影响测辐射热计的灵敏度，因此文中主要研究 TCR)，同时也会造成很大的噪声．镍膜由于其电 工作气压、氩气流量以及溅射功率等磁控溅射工艺