磁控溅射smfe：gmf的工艺及膜性能研究 - 福州大学学报.pdfVIP

第31卷第6期 福州大学学报(自然科学版) ”01·31“o：6 1塑!至!!旦 业!翌!!!!墅些!!!!堕!!唑!!墨型竺生羔巫塑堡上————————————————旦：1三二．!旦堕 磁控溅射smFe：GMF的工艺及膜性能研究 彭俊华，周白杨，邓光华，王平，周军 (福州大学材料科学与工程学院，福建福州 350002) 摘要：采用正交试验方法研究了磁控溅射的工艺因素：溅射功率、溅射气压、基片到靶材的距离等对smFe： 超磁致伸缩薄膜制备的影响；用sEM能谱仪研究了获得的smFb薄膜的成分；用小角度x射线掠射法研究 了获得的smF电薄膜的结构{得到了磁控溅射制备smF电薄膜的优选工艺条件；并测量了该工艺条件下 smF包GMF的磁致伸缩系数^ 关键词：磁控溅射；smF岛；功能薄膜；磁致伸缩 中图分类号：TM27l 文献标识码：A lks曲rchonthe andcharacteristicso