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4. 集成光学材料与制作工艺 1 4.1 集成光学材料 集成光学—— 2 4.2 集成光学制作工艺概述 集成光学—— 材料与制作工艺 3 4.3 沉积工艺方法 材料与制作工艺 4 4.4 光刻工艺方法 杨军 哈尔滨工程大学理学院 5 4.5 扩散与离子工艺方法 2007年9月 6 4.6 外延生长方法 4.1集成光学材料概述 集成光学器件与材料的关系 集成光学器件包括光源、调制器、开关、偏转器、波导耦 合器、探测器等。一般来说，可以分为以下三个部分： 第一类：无源集成光学器件，不含光源的集成光学器件。 必须使用适当的方法将光从外部耦合进去，有时为了完成 某种功能，需要二个或二个以上的集成光学系统，称为混 合集成光学系统。 第二类：有源集成光学器件，含有光源的集成光学器件。 在单块衬底上制作的各种集成光学器件称为单块集成光学 器件，更可靠。 第三类：光电集成器件，既有光学元件，又包括电子元件。 光调制效应与材料 集成光学材料的基本要求 易于形成质量良好的光波导。首先，希望能用某种容易实现的 方法，在相应的衬底及覆盖层之间形成折射率较高的波导层， 而且工艺性好。其次，要求形成的光波导能满足器件功能的要 求，其中最重要的是在器件工作波长范围内，传输损耗要小， 即材料的“透明度”要高，光散射小，一般要求光波导的损耗在 1dB/cm以下。 集成度高。希望能在同一个衬底上制备出尽量多的不同功能元 件。III-V化合物半导体材料级可以制成光学有源器件，有可以 制作光学无源器件，还可用来制备与光功能器件相匹配的驱动、 控制用电子器件。 经济性。包括材料本身的成本以及加工的费用，在很大程度上 决定了集成光电子学器件的实用性。玻璃和聚合物光波导具有 明显优势。 集成光学材料的分类 半导体材料——Silicon Wafer 在上世纪的六十年代进入了硅时代。在硅材料基础上微电子工业 按构成器件的功能分类：