材料分析方法(厦门大学复试）试卷7.doc

材料现代分析方法试题7（参考答案） ? 一、基本概念题（共10题，每题5分） 1．欲用Mo靶X射线管激发Cu的荧光X射线辐射，所需施加的最低管电压是多少？激发出的荧光辐射的波长是多少？ 答：欲使Cu样品产生荧光X射线辐射， V =1240/λCu=1240/0.15418=8042，V =1240/λCu=1240/0.1392218=8907 ? ?  激发出荧光辐射的波长是0.15418nm 激发出荧光辐射的波长是0.15418nm ? 2．判别下列哪些晶面属于[11]晶带：（0），（1），（231），（211），（01），（13），（12），（12），（01），（212）。 答：（0）（1）、（211）、（12）、（01）、（01）晶面属于[11]晶带，因为它们符合晶带定律：hu+kv+lw=0。答：（0）（1）、（211）、（12）、（01）、（01）晶面属于[11]晶带，因为它们符合晶带定律：hu+kv+lw=0。 3．用单色X射线照射圆柱多晶体试样，其衍射线在空间将形成什么图案？为摄取德拜图相，应当采用什么样的底片去记录？ 答：用单色X射线照射圆柱多晶体试样，其衍射线在空间将形成一组锥心角不等的圆锥组成的图案；为摄取德拜图相，应当采用带状的照相底片去记录。 4．洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响？其表达式是综合了哪几方面考虑而得出的？ 答：洛伦兹因数是表示掠射角对衍射强度的影响。洛伦兹因数表达式是综合了样品中参与衍射的晶粒大小，晶粒的数目和衍射线位置对衍射强度的影响。 5．给出简单立方、面心立方、体心立方以及密排六方晶体结构电子衍射发生消光的晶面指数规律。 答：常见晶体的结构消光规律 简单立方????? 对指数没有限制（不会产生结构消光） f. c. c???????? h. k. L. 奇偶混合 b. c. c???????? h+k+L=奇数 h. c. p???????? h+2k=3n, 同时L=奇数 体心四方????? h+k+L=奇数 6．透射电镜的成像系统的主要构成及特点是什么? 答：透射电镜的成像系统由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜（1、2）和投影镜组成。各部件的特点如下： 1）f=1-3mm）,放大倍数100—300倍。 作用：形成第一幅放大像 2）20—120um，无磁金属制成。 作用：a.提高像衬度，b.减小孔经角，从而减小像差。C.进行暗场成像 3）20-400um， 作用：对样品进行微区衍射分析。 4）0—20倍 作用a.控制电镜总放大倍数。B.成像/衍射模式选择。 5） 小孔径角有两个特点： a.景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度。 b.焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 并且有些电镜还装有附加投影镜，用以自动校正磁转角。 7．说明多晶、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。 答：单晶衍射的特点： 1）电子束方向B近似平行于晶带轴[uvw]，因为θ很小，即入射束近似平行于衍射晶面， 2）反射球很大，θ很小，在0*附近反射球近似为平面。 3）倒易点阵的扩展。（因为使用薄晶体样品） 因此，不难看出，单晶电子衍射花样就是(uvw)*0零层倒易截面的放大像。 成像原理图和单晶电子衍射花样见下图。 ? 电子束照射多晶、纳米晶体时，衍射成像原理与多晶X射线衍射相似，如图 多晶的衍射花样为：各衍射圆锥与垂直入射束方向的荧光屏或照相底片的相交线，为一系列同心圆环。 8．试述用合成电子衍射图法如何确定两相间的取向关系？ 答：用合成电子衍射图法确定两相间的取向关系的步骤如下: （1）从合成的电子衍射图中分离出两套衍射斑点，分别标定两套衍射斑点指数，并确定晶带轴指数〔uvw〕A和[u/v/w/]B (2)找出互相平行的两相的矢量RA和RB，指数分别为(hkl)A和（h/k/l/）B。 （3）可以确定两相的取向关系为（hkl）A//(h/k/l/)B ?????????????????????????????? [uvw]A//[u/v/w/]B 9．解释红外光谱图的一般程序是什么？ 答：运用红外光谱解谱的四要素，分析吸收峰对应的基团；若是单纯物质可对照SADLTER标准图谱；还可从数据库查相应发表文献的红外光谱信息。 10．红外光谱的近期发展有哪些？ 答：付立叶红外及差谱技术，红外二向色性，二维相关红外，动态红外光谱和表面红外技术等。 二、综合及分析题（共5题，每题10分） 1．讨论下列各组概念中二者之间的关系： 1）同一物质的吸收谱和发射谱； 答：λk吸收 〈λkβ发射〈λkα发射 2）X射线管靶材的发射谱与其配用的滤波片的吸收谱。 答：λkβ发射（靶）〈λk吸收(滤波片)〈λkα发射（靶）。任何材料对X射线的吸收都有一个Kα线和Kβ线。如 Ni 的吸收限为0.14