规则织构化硅片表面的制备及其润湿行为 - 中国表面工程.pdfVIP

第２４卷 第 ３期 中　国　表　面　工　程 Ｖｏｌ．２４ Ｎｏ．３ ２０１１年６月 ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ｊｕｎｅ ２０１１ ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ２０１１．０３．００２ 规则织构化硅片表面的制备及其润湿行为  １，２ １ １，２ ２ ２ 赵文杰 ，曾志翔 ，王立平 ，陈建敏 ，薛群基 （１．中国科学院宁波材料技术与工程研究所 表面工程事业部，宁波 ３１５２０１；２．中国科学院兰州化学物理研究所 固体 润滑国家重点实验室，兰州 ７３００００） 摘　要：采用感应耦合等离子体刻蚀技术实现了不同形状和几何参数的规则织构化硅片表面的构筑与制备。主要以 三种典型的规则织构包括圆柱状、圆坑状和沟槽状表面为研究对象，系统考察了织构形状和几何参数对表面润湿行为 的影响规律。研究结果表明：随着织构高度、深度和表面覆盖率的增加，规则织构化硅片表面疏水性能增强，规则织构 化表面疏水性能随着表面粗糙度的增加而增强。不同的几何形貌对硅片表面接触角的影响强度是不同的，相对于柱状 与沟槽状织构，坑状织构在较小的表面粗糙度时可得到较大的接触角。当表面的接触角均为 １０１°时，坑状、柱状、沟槽 状织构的表面粗糙度分别为 １６．２ｎｍ，２９．２ｎｍ和７０．２ｎｍ。 关键词：规则织构化；形状；几何参数；润湿性 中图分类号： 　　　　文献标识码： 文章编号： Ｏ４８５ Ａ　　　　 ２０１１ ＦａｂｒｉｃａｔｉｏｎａｎｄＷｅｔｔｉｎｇＢｅｈａｖｉｏｒｓｏｆＲｅｇｕｌａｒＴｅｘｔｕｒｅｄＳｉｌｉｃｏｎＳｕｒｆａｃｅｓ １，２ １ １，２ ２ ２ ＺＨＡＯＷｅｎｊｉｅ ，ＺＥＮＧＺｈｉｘｉａｎｇ，ＷＡＮＧＬｉｐｉｎｇ ，ＣＨＥＮＪｉａｎ ｍｉｎ，ＸＵＥＱｕｎｊｉ （１．ＳｕｒｆａｃｅＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇｄｉｖｉｓｉｏｎ，ＮｉｎｇｂｏＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ， Ｎｉｎｇｂｏ３１５２０１；２．ＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＳｏｌｉｄＬｕｂｒｉｃａｔｉｏｎ，ＬａｎｚｈｏｕＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＰｈｙｓｉｃｓ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉ ｅｎｃｅｓ，Ｌａｎｚｈｏｕ７３００００） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｒｅｇｕｌａｒｔｅｘｔｕｒｅｄｓｉｌｉｃｏｎｓｕｒｆａｃｅｓｗｉｔｈｖａｒｉｏｕｓｓｈａｐｅａｎｄｄｉｆｆｅｒｅｎｔｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌｐａｒａｍｅｔｅｒｓｗｅｒｅｓｕｃｃｅｓｓｆｕｌｌｙｄｅｓｉｇｎｅｄ ａｎｄｐｒｅｐａｒｅｄｕｓｉｎｇｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙｃｏｕｐｌｅｄｐｌａｓｍａ（ＩＣＰ）ｅｔｃｈｉｎｇｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ．Ｗｉｔｈｆｏｃｕｓｏｎｔｈｅｔｈｒｅｅｋｉｎｄｓｏｆｔｙｐｉｃａｌｔｅｘｔｕｒｅｄｓｉｌｉ ｃｏｎｓｕｒｆａｃｅｓｉｎｃｌｕｄｉｎｇｐｉｌｌａｒ，ｄｉｍｐｌｅａｎｄｇｒｏｏｖｅｉｎｔｈｉｓｓｔｕｄｙ，ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｓｏｆｔｅｘｔｕｒｅｓｈａｐｅａｎｄｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌｐａｒａｍｅｔｅｒｓｏｎｔｈｅｗｅｔ ｔｉｎｇｂｅｈａｖｉｏｒｓｏｆｔｅｘｔｕｒｅｄｓｕｒｆａｃｅｓｗｅｒｅｓｙｓｔｅｍａｔｉｃａｌｌｙｅｖａｌｕａｔｅｄ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔｗｅｔｔｉｎｇｂｅｈａｖｉｏｒｓｏｆｔｅｘｔｕｒｅｄｓｉｌｉｃｏｎｓｕｒ ｆａｃｅｓｗｅｒｅｃｌｏｓｅｌｙｒｅｌａｔｅｄｔｏｔｈｅｔｅｘｔｕｒｅｓｈａｐｅｓａｎｄｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌｐａｒａｍｅｔｅｒｓ．Ｗｉｔｈｔｈｅｉｎｃｒｅａｓｉｎｇｏｆｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓ，ｒｅｇｕｌａｒ ｔｅｘｔｕｒｅｄｓｕｒｆａｃｅｓｂｅｃａｍｅｍｏｒｅｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ．Ｓｉｌｉｃｏｎｗａｆｅｒｓｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｇｅｏｍｅｔｒｉｃｍ