透明结构物形貌量测技术发展现况 - aoiea 自动光学检测设备联盟.pdfVIP

透明結構物形貌量測技術發展現況 林士傑 余昇剛 王昱珽 國立清華大學動力機械系 摘要 由於光電顯示產業如液晶顯示器、軟性顯示器的快速發展，越來越多種透明材質的基板及表面薄膜結 構逐漸被開發使用。而在商品化的過程中，必須面對品質檢測的需求；因此量測透明物件的形貌、尺 寸，愈發重要。 而本研究所使用之差分干涉對比(DIC)顯微技術原為一影像強化技術；常用於強化透明物件與背景之 差異。但其原理，則可用於透明物件的三維形貌的量測上 ，本研究是在相關技術發展多年 ，本文旨在 介紹目前技術的能力及面臨之挑戰 。 關鍵字: 差分干涉、透明物、三維量測 壹 、前言 DIC 技術具有共光路、抗震動、高橫向解析度的特性，其基本概念最早由 Smith 提出[Douglas, 2003] ， 1952 年由 Nomarski 改良成現今型式，光學系統隨後在 1960 年代由德國的卡爾蔡司(Carl Zeiss) 公司發展而成。Rainer Danz 與 Peter Gretscher (2004)提出了一圓偏極光 DIC(C-DIC)的硬體架構， 在反射式光路中的兩偏極片旁加入四分之一波片產生圓偏極光，透過旋轉 DIC 稜鏡而非旋轉待測物 的方式得到不同剪切方向的差分影像。Michael Shribak 等人[2008, 2009]改變相移式(PS-DIC)的硬 體架構，同時轉兩個四分之一波片達成改變剪切方向，發展出不用轉待測物的量測方法，減少了旋轉 載物台等相關精密機構，但缺點是使用光學元件數量增加，價格相對提高。Cui 等人[2008]提出特殊 孔結構附加於感測元件上的 SA-DIC ，以掃描方式達成兩個不同剪切方向之差分干涉影像擷取。Fu 等 人[2010]則發表了利用離軸自干涉式的定量化 DIC ，於光路中加入光柵產生全像干涉圖，同時擷取兩 個不同剪切方向之差分干涉影像。 本研究採用相移式 DIC 架構，透過旋轉 DIC 稜鏡的方向達成剪切方向的改變，整合定量化相位還原 重建演算法，應用於透明物件的尺寸形貌量測。並以模擬探討重建演算法對於定量化相位還原的精度； 以實驗探討不同光路形式對於實驗量測結果的影響。 貳 、研究方法 DIC 原 理 為 運 用 一 特 殊 的 分 光 鏡 ： 渥 拉 斯頓 稜 鏡 (Wollaston prism) 或 諾 瑪 斯基 稜 鏡 (Normaski prism)進行分光及合成光的作用，其光學架構如 Fig.1 B 所示。將一束入射光通 過分光 DIC 稜鏡時，會形成一對空間中相鄰兩道有微小間距、且偏振方向互相正交的偏極光 入射待測物，其中稱此微小間距稱為“剪切(shear)”。由於穿過待測物的兩道光因為光程長 的差異，導致產生相位差之後，再將兩道光經過合成光 DIC 稜鏡時，合成一束干涉光。依此 原理將待測物的厚度或折射率之梯度變化轉換成為光強度資訊，在感測器上獲得相位差分佈， 形成在物件有高低起伏處、邊緣與周圍環境間被凸顯的高對比度影像。要調整 DIC 影像的對 比程度可透過調整 DIC 稜鏡的“偏置(bias)”，即改變這兩道光之間的相位差來達成。 DIC 的成像過程如 Fig.1 A 所示。首先，通過偏極板的偏振光可分解為 Ex 與 Ey 兩個分量， 透過調整偏極板的角度可以獲得兩光強度相同的分量(Fig.1 A.a) ；這束光的兩個分量再通過分 光 DIC 稜鏡與聚焦鏡後產生兩道偏極光(Fig.1 A.b) ；光通過待測物後(Fig.1 A.c) ，再經過成像 物鏡與合成光 DIC 稜鏡，此時 DIC 稜鏡所導致的偏置量為Γ(Fig.1 A.d) ，並將兩道光合成一 束，透過檢偏鏡之後形成干涉影像(Fig.1 A.e) ，最後以成像鏡頭將光強度分布成像於CCD 上 (Fig.1 A.f) 。 Fig. 1 DIC 影像呈像示意圖 参 、研究成果 本論文將研究成果分三階段介紹，分別為階高量測、楔形斜面角度量測與圓弧曲面量測三部分 階高量測 在階高量測部分 ，若無過大之起伏則無