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具有垂直光路结构的薄膜应力测
量装置及其应用
申请号：201210061864.5
申请日：2012-03-10
申请(专利权)人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
发明(设计)人方运 王逸群 王玮 朱建军 张永红 张宝顺
主分类号 G01L1/24(2006.01)I
分类号 G01L1/24(2006.01)I
公开(公告)号102620868A
公开(公告)日2012-08-01
专利代理机构 苏州慧通知识产权代理事务所(普通合伙) 32239
代理人 丁秀华
注：本页蓝色字体部分可点击查询相关专利
(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102620868B*
*CN102620868B*
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 102620868 B
(10)授权公告号 CN 102620868 B
(45)授权公告 日 2013.12.11
(21)申请号 201210061864.5 CN 1793842 A,2006.06.28,
(22)申请 日 2012.03.10 审查员 董晶
(73)专利权人 中国科学院苏州纳米技术与纳米
仿生研究所
地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖
高教区若水路398 号
(72)发明人 方运 王逸群 王玮 朱建军
张永红 张宝顺
(74)专利代理机构 苏州慧通知识产权代理事务
所 (普通合伙) 32239
代理人 丁秀华
(51) Int.C l.
G01L 1/24 (2006.01)
(56)对比文件
CN 1065931 A,1992.11.04,
US 2008186512 A1,2008.08.07,
CN 201163222 Y,2008.12.10,
CN 101446687 A,2009.06.03,
权利要求书1页 说明书3页 附图2页
权利要求书1 页 说明书3 页 附图2 页
(54) 发明名称
具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其
应用
(57) 摘要
本发明揭示了一种具有垂直光路结构的薄膜
应力测量装置及其应用。该薄膜应力测量装置包
括多光束图形发生器以及光束位置探测器，所述
多光束图形发生器与所述光束位置探测器互相垂
直排布。本发明提高了薄膜应力测量精度，简化了
薄膜应力测量装置的光路布局与装调要求，可被
广泛应用于在薄膜应力离线测量装置、薄膜沉积
设备、材料外延设备等之中。
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