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大气压电离质谱及其用于超高纯气体分析的研究进展-岩矿测试
2014年12月 岩 矿 测 试 Vol.33,No.6
December2014 ROCKANDMINERALANALYSIS 775~781
文章编号:0254 5357(2014)06 0775 07
大气压电离质谱及其用于超高纯气体分析的研究进展
张体强,胡树国 ,韩 桥
(中国计量科学研究院,北京 100029)
摘要:超高纯气体在工业生产中有非常重要的地位,如半导体工
业中电子气的质量直接影响半导体器件的性能,百万分之几的微
量杂质气体便可导致集成电路中元件存储信息量的减少。越来
越高的气体纯度要求对分析方法及仪器的灵敏度提出了很大的
挑战。大气压电离质谱(APIMS)由于可以在大气压条件下对杂
质进行电离,并伴随高效的电离方式,因此具有极高的灵敏度,成
为超高纯气体杂质分析中极为有效的技术手段,特别适合检测
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10 mol/mol甚至10 mol/mol浓度量级的气体杂质。APIMS采用电晕放电及 Ni两种电离源,通常以电
晕放电电离源为主,质量分析器常采用四极杆,同时为适应超高纯气体分析,APIMS配备了气体进样系统及
可将标准气体稀释产生校正气体的稀释系统。APIMS对杂质检测的灵敏度与杂质的电离方式密切相关,电
荷传递是杂质电离最主要的一种方式,适用于电离能相差较大的底气与杂质,常见的N、Ar由于电离能较
2
高,其中的大部分杂质均可依靠该方式测定;质子转移反应的应用通常与 H 有关,常用于H 中杂质的测
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定,也可以通过添加H 的方法促进对Ar中N 杂质的检测;运用形成团簇离子的反应尽管较少,但亦有报
2 2
+
道,通过监测团簇离子O ·HO,可提高O 中杂质HO的检测灵敏度。依据不同的电离反应,可以设计对
2 2 2 2
不同杂质的测定方式,实现对痕量、超痕量杂质的检测。APIMS检测灵敏度通常比电子轰击电离质谱(EI/
4 6
MS)高10~10倍,因此目前依然是超高纯气体分析中不可替代的仪器方法,但在某些方面如对有腐蚀性
电子特气的分析,方法灵敏度有待提高。
关键词:大气压电离质谱;电荷传递;质子转移反应;超高纯气体分析;研究进展
中图分类号:O659.63 文献识别码:A
高灵敏度、高选择性及高速分析的特点一直是 大气压电离质谱(APIMS)。
[1] 20世纪70年代,出现第一台商业化的大气压
质谱分析的优势 ,质谱技术已被广泛应用于化
[2]
学、生物、刑侦、航天、化工、医药、食品安全、环境保 电离质谱 。经过数年的研究,可在大气压下电离
护等多个领域。在半导体工业中,质谱亦有非常重 工作的质谱有了很大的发展,用于分析的样品除了
要的用途。高纯、超高纯气体在半导体器件生产中 纯物质外,复杂基体的样品也可以用于直接分
有着极其重要的地位,既作为保护气又充当原材料, 析[3-7],大气压电离质谱的范畴有了很大的延展,但
且气体纯度随着半导体工业的发展要求越来越高, 在气体纯度分析领域,依然习惯沿用传统的称谓即
即杂质含量越来越低。为此,质谱技术在大型半导 大气压电离(API)质谱。受益于半导体工业的高速
体生产工厂几乎成为最重要的可以用来对超高纯气 发展,APIMS的分析能力得以充分的挖掘。尤其是
体杂质进行有效监测的仪器设备,这种质谱技术即 上世纪90年代前后,国外针对 APIMS的气体纯度
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