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第2章集成电路工艺介绍

第2章 集成电路工艺介绍 本章要求 1.成品率的概念 2.成品率的重要性 3.描述一个无尘室的基本结构 4.说明无尘室协议规范的重要性 5.列出集成电路工艺中的四种基本工艺 6.列出至少六种集成电路生产车间内的工艺区名称 7.列出集成电路生产车间内共用的设施系统 8.说明芯片封装的目的和意义 9.比较陶瓷封装和塑料封装 10.描述标准的引线接合工艺与覆晶键合工艺 11.列出封装工艺的温度需求 12.描述感生故障测试的目的 本章将介绍半导体制造的基本过程,包括无尘室运行的基础、污染控制、成品率、制造区 域、设备区域、测试和封装过程。 2.1 集成电路工艺简介 集成电路制造是一个复杂且耗时的过程:首先要利用电子设计自动化(EOA)软件开始电路设 计,接着将集成电路设计的版图转印到石英玻璃上的铬膜层,形成光刻版或倍缩光刻版;在另一 个领域,由石英砂提炼出的初级硅经过纯化后拉成单晶硅棒,然后切片制成晶圆。晶圆经过边缘 化和表面处理,再与光刻版/倍缩光刻版一起送到半导体制造厂,制成集成电路芯片(见图2.1)。 图2.1 IC制造工艺流程图

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