第2章集成电路工艺介绍
第2章 集成电路工艺介绍
本章要求
1.成品率的概念
2.成品率的重要性
3.描述一个无尘室的基本结构
4.说明无尘室协议规范的重要性
5.列出集成电路工艺中的四种基本工艺
6.列出至少六种集成电路生产车间内的工艺区名称
7.列出集成电路生产车间内共用的设施系统
8.说明芯片封装的目的和意义
9.比较陶瓷封装和塑料封装
10.描述标准的引线接合工艺与覆晶键合工艺
11.列出封装工艺的温度需求
12.描述感生故障测试的目的
本章将介绍半导体制造的基本过程,包括无尘室运行的基础、污染控制、成品率、制造区
域、设备区域、测试和封装过程。
2.1 集成电路工艺简介
集成电路制造是一个复杂且耗时的过程:首先要利用电子设计自动化(EOA)软件开始电路设
计,接着将集成电路设计的版图转印到石英玻璃上的铬膜层,形成光刻版或倍缩光刻版;在另一
个领域,由石英砂提炼出的初级硅经过纯化后拉成单晶硅棒,然后切片制成晶圆。晶圆经过边缘
化和表面处理,再与光刻版/倍缩光刻版一起送到半导体制造厂,制成集成电路芯片(见图2.1)。
图2.1 IC制造工艺流程图
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