穿透式电子显微镜之结构及其成像原理.PDF

穿透式電子顯微鏡之結構 及其成像原理 • 穿透式電子顯微鏡之結構 • 像差 • 鑑別率 • 成像與對比 • 選區繞射 • 視野深度及聚焦深度 • 電子顯微鏡的校準 穿透式電子顯微鏡之結構 。 1. 照明系統 2. 成像電磁透鏡系統 3. 試片室 4. 影像訊號偵測記錄系統 照明系統 * 電子槍：發射電子束之電子源。 (1)鎢絲 。 (2)LaB6 絲 。以上兩種電子源皆由熱游離發射(thermionic emission)原理產生電子； (3)場發射槍 ((field emission gun ，FEG)，由強電場將電子 吸出，即由電場發射原理產生電子。 *聚光鏡 : 主要功能在產生一散度小、亮度高、尺寸小之電子束。 (1)單聚光鏡 (2)双聚光鏡 • 熱游離發射(Thermionic emission) Richardson,s law E W − J AT 2 e kT e 2 2 通常鎢絲的電流 A~60 A/(cm K ) ，Ew = 4.5eV ，一般操作溫度大約為 2700K 。J e可由 Richardson 公式算出 ， 約為 1.75 A/cm 2 ，其壽命在 10-5 torr的真空下平均約 40 一80 小時。 通常 LaB6電子源之 A~40A/(cm2 K2 ) ，Ew =2.4 eV ，一般操作時在尖端的 溫度為 1700 至 2100 K 。J 2 2 2 可達 10 A/cm 。 如在J ~10A/cm 時使用 e e 壽命可超過 10,000 小時。 • 鎢絲 • LaB6 • 場發射槍 可產生 小於10 nm的電子聚焦點 ； 6 發射電流密度可以 高達 10 A/cm 2 ，必須在10-10 torr的真空下操 作。 照明系統 • 三種電子的亮度(Brightness, B) 比 B :B :B 鎢絲 LaB6 場發射槍 = 1 : 10 : 103 • 偏壓差 vs. 發射電流、亮度 *負偏壓有抑制發射電流與聚焦 之雙重作用。 • 電子束 vs.燈絲電流 • 亮度： 2 j r dF B ∆ϖ dSdA j