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淀积法 渗入法 化合法、扩散法、离子注入法 气相法 液相法 化学镀、电镀、Sol-Gel、MOD、液相外延、水热法、喷雾热解、喷雾水解、LB膜及自组装 PVD CVD 常压CVD、低压CVD、 金属有机物CVD、 等离子体CVD、 光CVD、热丝CVD 真空蒸发 Evaperation 溅射 Sputtering 离子镀 Ion plating 薄膜制备方法分类 物理气相沉积技术(PVD)是利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程,在基体表面沉积所需薄膜的技术 化学气相沉积技术(CVD)是利用化学反应,将气相中的物质转移到基体表面形成所需薄膜的技术 物理与化学相结合,以技术方法区分。氧化物、氮化物的制备。 Evaporation e-beam evaporation system Sputtering Pulsed Laser Deposition 薄膜的应用 电学——超导、导电、半导体、电阻、绝缘、电介质 功能薄膜 光学——增透、反射、减反、光存储、红外 磁学——磁记录和磁头薄膜 热学——导热、隔热、耐热 声学——声表面波滤波器,如ZnO、Ta 机械——硬质、润滑、耐蚀、应变 化学、 生物 薄膜的分类 传感器:压力,温度,湿度,加速度,气体 光电子器件:薄膜电致发光器件,代替CRT作显示器 信息及计算机:磁性薄膜,光盘,磁光盘 光学:反射膜,增透膜 机械工业:耐磨涂层,硬质镀层,固体润滑膜,耐腐蚀装饰、包装,镀金,锡箔纸,塑料薄膜上镀铝 太阳能电池,超导薄膜,铁电薄膜,金刚石薄膜… 集成电路: P-N结、绝缘层、导线,并由此构成二极管、三极管、电阻、电容等电子元件 是薄膜技术的最主要推动力 莫尔定律:每1.5年,更新1代:线宽缩小为上一代的0.7倍 薄膜传感器的制作 磁性薄膜 Coil for writing 巨磁阻磁头的薄膜断面 Top magnetic layer ~ 100 ? Carbon overcoat ~ 70 ? Lubricant ~ 20 ? Spacer layer ~ 0 - 20 ? Substrate Seed layer ~ 100 ? Under layer ~ 100 ? Bottom magnetic layer ~ 100 ? Intermediate layer ~ 50 ? 晶体太阳能电池 YBCO/CeO2/YSZ/CeO2/Ni YBCO超导样品 YBCO 薄膜形貌 作业 什么是薄膜? 薄膜制备方法分类。 薄膜应用领域举例。 人有了知识,就会具备各种分析能力, 明辨是非的能力。 所以我们要勤恳读书,广泛阅读, 古人说“书中自有黄金屋。 ”通过阅读科技书籍,我们能丰富知识, 培养逻辑思维能力; 通过阅读文学作品,我们能提高文学鉴赏水平, 培养文学情趣; 通过阅读报刊,我们能增长见识,扩大自己的知识面。 有许多书籍还能培养我们的道德情操, 给我们巨大的精神力量, 鼓舞我们前进。 * 薄膜物理与技术 赵晓辉 课程介绍 赵晓辉 办公室:微固楼 335 电 话 Email:xhzhao@uestc.edu.cn 课程介绍 上课时间: 周二 3、4节 周四 1、2节 总共32学时 实验课1次 上课地点: 二教 108 课程介绍 课程任务: 掌握固体薄膜的主要制备技术及相关知识,为从事固体电子薄膜的研究、设计和制备打下基础。 教材及参考书 《薄膜材料制备原理、技术及应用》 唐伟忠, 冶金工业出版社,2003 《薄膜物理与技术》 杨邦朝, 电子科大出版社,1994 《薄膜科学与技术手册》 田民波,机工版,1991 《Material Science of Thin Films-Deposition Structure》 M. Ohring,世图影印版,2006 《电子薄膜材料》 曲喜新,科学出版社,1996 主要内容 第一章 真空技术基础 第二章 物理气相沉积--蒸发 第三章 物理气相沉积--溅射 第四章 化学气相沉积 第五章 化学溶液沉积 第六章 薄膜生长过程和结构 第七章 薄膜材料的表征方法 课件 课件是提纲 课本是主要内容 讲述是重点 U盘拷贝 考试 考试形式:闭卷 考试内容:所有讲述内容 成绩构成: 平时成绩:30%(作业,出勤,实验报告) 考试成绩:
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