硅片自旋转磨削工艺规律研究二二教材.docVIP

本科毕业设计（论文） 硅片自旋转磨削工艺规律研究 学 院 机电工程学院 专 业 机械设计制造及其自动化 (机械电子方向） 年级班别 2008级(2)班 学 号 3018000383 学生姓名 王展浩 指导教师 魏昕 2012 年 5 月 21 日 摘要 单晶硅片是集成电路(IC)制造过程中最常用的衬底材料，硅片的表面层质量直接影响着器件的性能、成品率以及寿命。随着硅片尺寸的增大，新的硅片高效超精密平整化加工工艺得到了大量的研究。其中，具有高效率、高精度、低损伤等优点的硅片自旋转磨削技术正逐步成为抛光硅片和图形硅片背面减薄的主流加工技术。本文利用基于自旋转磨削原理的硅片超精密磨床，通过试验研究了砂轮磨粒粒度、砂轮进给速度和砂轮转速等主要因素对磨削后硅片的磨削力和表面质量的的影响关系。 关键词：硅片,磨削,砂轮,磨床,自旋转磨削 注：本设计题目来源于教师的国家级科研项目，项目编号为：U0734008。 Abstract Silicon integrated circuit ( IC ) manufacturing process most commonly used in the substra