电流密度和添加剂条件对甲基磺酸体系锡镀层织构的影响论文.pdfVIP

电流密度和添加剂条件对甲基磺酸体系锡镀层织构的影响论文.pdf

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322 2004年全国电子电镀学术研讨会论文集 电流密度和添加剂条件对甲基磺酸体系 锡镀层织构的影响 牛振江1,杜小光2,孙雅峰1,叶青1,李则林1.杨防祖3,姚士冰3,周绍民3 (1浙江师范大学物理化学研究所,浙江,金华321004;2浙江广播电视大学青Ⅱ]分校,浙江,青田323900 3.厦门大学化学系,福建,厦门361005) [摘要]通过调节锡镀层的织构择优情况可减小形成锡晶须的趋势[schelty,et 甲烷磺酸体系中,电流密度、表面活性剂(OP)、甲醛和二乙醇胺对锡镀层织构的影响。结果表明镀层的织构择优依赖于电流密度 通过调节甲烷磺酸镀锡体系的电流密度和添加剂,可方便地控制镀层的结构择优情况。 【关键词]锡镀层,甲基磺酸,织构,电流密度,添加剂 of Effectsofcurrent andadditives蚰thetextures de瑚ity tin frommeth眦esulfonic electrodeposited Niu ze—linl, Zhen—ji肌g。,Duxiao—gua“92,SunYa—fe“91,YeQing。,Li shao—m甜 Ya”gFang—zu3。Yaosbj_bjn矿,Zhou 1.Instituteof No珊al Physicalchemistry,zhejiangUniversity,Jinhua321004,zhejia“g 0f BranchSchool Radio&Television 2.Qin殍ian zheji卸g University,Qin昏ian323900,zhejia“g of university,xiamen361005,Fujian 3.Depanmentchemis时,xi锄en 0f reduced the of tinwhiskercouldbe orientationt11etin Abst瑚ct:Fo瑚ation bycontrollingcry8tal deposi协l current RA,etal,砌3092911].Inpresem innuenceofcathode scheny p印er,the dieth卸ola耐neonthetextureoftin fromme山anesu‰nic aldehvde(HCH0)and depositselectmplated were resuhsindicated o^entation0f bathesinvestigatedX—raydi自fhction(XRD).Theth砒血e by preferred on

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