平面多层膜超分辨光刻及制备方法研究.pdfVIP

日期： 年 月 日 万方数据 摘要 摘 要 传统光学一直受限于二分之一入射波长的光学衍射极限，这极大地限制了光 刻系统和光学成像的分辨率，成为了光存储、光学显微、投影光刻、以及光波导 集成等多个学科领域发展的绊脚石。不过近几年来，不同的手段已经被应用来克 服衍射极限，使其不再是一个不可逾越的难题。其中金属-介质平面多层膜结构的 人工meta 材料，因其表面等离子体的局域特性等独特性质，而被广泛应用于超分 辨光刻中。 本论文就是对于该方面的研究，从理论与实验两个方面开展了对平面多层膜 超分辨光刻的研究以及制备方法的探索。论文主要结构安排如下： 1. 首先对产生衍射极限的原因进行了分析，并对人工meta 材料和超分辨技术 的发展以及现状进行了简要的介绍。然后详细地介绍了我们采用的基于表面等离 子体的超分辨光刻研究，并比较了现有的几种较常见的超衍射极限的方法以及各 自的优劣。最后还描述了该种平面多层膜结构所具有的特性。 2. 设计了一种新型的金属介质平面多层膜结构，相比传统的平面多层膜超透 镜结构，这种模型得到的图形具有更好的面型和更强的对比度。利用基于有限元 方法的商业软件COMSOL 对该结构进行了数值模拟验证，不仅能够成功地实现超 分辨光刻，并且通过选择合适的结构参数可以使光刻图形对比度达到0.9 以上。 3. 在设计和仿真的基础上，本文的重点是制备了该平面多层膜结构并实验实 现了超分辨光刻。在365nm 的光源下，完成了特征尺寸为100nm 的超分辨成像， 成功验证了以上理论。并且在此过程中，对相关的一些制备工艺进行了探索，完 成了诸如通过干涉光刻的方法制作大面积的100nm 掩膜等的研究。 关键词：平面多层膜，超分辨光刻，meta 材料，表面等离子体 I 万方数据 ABSTRACT ABSTRACT Traditional optics is limited to about half of the wavelength of the illumination light, which called the optical diffraction limitation. It greatly limits the lithography system and the resolution of optical imaging, and has become a stumbling block for optical storage, optical microscopy, optical waveguide integration and some other disciplines. But in recent years, different methods have been used to overcome the diffraction limit. It is no longer an insurmountable problem. The meta-material formed by the metal and dielectric planar multilayers has its unique properties, such