多晶硅薄膜制备工艺研究.pdfVIP

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
多晶硅薄膜制备工艺研究

摘要 作为绿色能源,太阳能电池在能源危机和环境危机的今天,突显其研究和 应用价值。多晶硅薄膜集晶体硅和非晶硅材料优点于一身,克服了光致衰退,与 现有的太阳能电池研究生产技术具有兼容性,有可能成为制作太阳能电池的廉价 优质材料。 等离子体辅助化学气相沉积方法(PECVD)是制备薄膜材料的几种方法中 技术最为成熟、操作较为简单的一种,并且可以制各均匀性高的大面积薄膜。但 是采用PECyD方法沉积多晶硅薄膜仍面临着两大难题:一是薄膜的晶化率有待 提高;二是薄膜的生长速率也有待提高。薄膜的晶化率决定电池的性能,生长速 率决定其成本,因此高速制各优质薄膜是制作太阳能电池的关键。为解决这些问 题,目前研究人员多致力于沉积条件的优化以及如“二次晶化”等辅助手段的 采用。 本文采用PECVD方法,系统研究了沉积温度、衬底、射频功率、氢稀释比、 磷掺杂等沉积参数对多晶硅薄膜结晶状态及光电性能的影响,并对沉积出的多晶 硅薄膜进行了固相晶化。结果表明:1)在一定范围内随着沉积温度的升高、射 频功率的增大、硅烷含量的降低,薄膜的晶化率提高;但进一步提高温度、射频 功率反而会使薄膜晶化效果变差。硅烷含量的降低大大减慢沉积速率。2)衬底 的导电性能、及表面形貌对薄膜的晶化率有很大的影响。3)快速光退火与常规 炉子退火的结果有一定的差异:4)磷掺杂导致沉积时晶化率降低,但对固相晶 化有利。5)晶化越好薄膜的暗电导越大,光学带隙越小,逐渐靠近晶硅的带隙。 发现固相晶化后的薄膜表面出现孔洞,建立理论模型给出解释。固相晶化后样品 的反射谱显示它同时起到一定的减反射功能。 关键词:太阳能电池,等离子增强化学气相沉积(PECVD),沉积参数,固相 晶化 Ⅱ Abstract Solarcellasone of kind resource exhibits role of greenenergy because important the resourcacrisisandenvironmental silicon thinfilm crisis.Polycrystalline possesses theexcellencesof both siliconand thinfilmsilicon.Itnot crystalline amorphous only isimmune alsocanbe from“optical—induceddegradation’’but withthe compatible solarcell is and existing technology.Itpromising excellentmaterialforsolar cheap cell. Plasmaenhanced chemical oneof

文档评论(0)

qianqiana + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

版权声明书
用户编号:5132241303000003

1亿VIP精品文档

相关文档