膜厚量测膜厚量测原理与类型独立量测– X光反射仪 - 中原大学物理系.PPT

膜厚量測原理 演講者：楊仲準 電子儀器與量測技術 中原大學物理系 膜厚量測 鍍膜的類型 單晶膜、多晶膜/顆粒膜、非晶膜 膜厚量測的原理與類型 In situ ＆ 即時量測 獨立量測 膜厚量測常見問題 折射、反射、透射、散射、吸收、高度校正 雜訊的串入 大綱 膜厚量測 鍍膜的類型 膜厚量測 鍍膜的類型 單晶膜、多晶膜/顆粒膜、非晶膜 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 In situ 即時量測 – 石英振盪膜厚計 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 In situ 即時量測 – RHEED(反射高能電子繞射儀) 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – 橢偏儀 橢偏儀(Ellipsometry)是一種利用橢圓偏振光來測量厚度、複折射率或介電常數的 一種技術。透過同時考慮已知偏振態的入射光與由待測物反射之反射光的振幅與 相位變化，來獲得光學常數與膜厚的資訊。 流程： 起偏器將光源發出的光轉為線偏振態。 入射光與反射光路徑在同一平面上(稱為入射平面)， 被偏振為與此平面平行及垂直的光，則分別稱之為「s」或「p」偏振光。 經由待測物反射成為橢圓偏振態。 最後再由檢偏器及光偵測器測得其振幅及相位變化。 「s」及「p」成份之振幅（強度） 在反射及對其初始值做正規化之後， 分別標示為?rs及rp。 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – 橢偏儀 [1] 盧宥任、謝余松、張益三, 橢圓偏光術於ITO透明導電膜量測應用,光連雙月刊, No.99, 58-64 (2012) 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – X光反射儀 2dsin?=n? 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – X光反射儀 [2] 鄭信民, 林麗娟, X光繞射應用簡介,工業材料雜誌, 181, 100-108 (2002) 700 ? Cr 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – Alpha Step (表面輪廓儀) 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – AFM(原子力顯微鏡) 膜厚量測 膜厚量測常見問題 膜厚量測 常見誤差來源 折射、反射、透射、散射、吸收、幾何形狀誤差 點/區域厚度≠平均厚度 雜質的吸附 膜厚量測常見問題 膜厚量測 介紹結束