万克树《材料分析测试技术》材分思考题.docVIP

1 试总结衍射花样的背底来源，并提出一些防止和减少背底的措施。? 答：衍射花样的背底来源主要有以下方面：?（1）连续X射线光谱；? （2）非相干散射（康普顿散射）；?（3）靶材和滤波片的选用影响背底；?（4）X射线入射和衍射的平行度；?（5）样品的制备对背底的影响。?措施：? （1）采用的工作电压为激发电压3-5倍，使特征X射线与连续X射线比最大；? （2）非相干散射强度与sinθ/λ成正比，要降低非相干散射强度，需使sinθ/λ值变小，即提高入射X射线的波长，采用轻元素靶。? （3）正确选择靶材料，靶材产生的特征X射线（常用Kα射线）尽可能小地激发样品的荧光辐射，以降低衍射花样背底，使图像清晰。正确选择滤波片，能将Kβ射线完全滤掉，使Kα射线单色性好。也可用石墨单色器提高滤波纯度。?（4）采用多层膜反射器提高入射线和衍射线的平行度。? （5）样品，样品晶粒为5μm左右，长时间研究，制样时尽量轻压，可减少背底。 2 粉末样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何？为什么？板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何？? 答.?粉末样品颗粒过大会使德拜花样不连续，或过小，德拜宽度增大，不利于分析工作的进 行。因为当粉末颗粒过大（大于10-3cm）时，参加衍射的晶粒数减少，会使衍射线条不连续；不过粉末颗粒过细（小于10-5cm）时，会使衍射线条变宽，这些都不利于分析工作。?多晶体的块状试