超纯水制造系统中关于TOC的去除、检测和控制管理.PDFVIP

维普资讯 净 水 技 术 WATERPURIFICATIONTECHNOLOGY Vo1．25No．32006 超纯水制造系统中关于TOC的去除、检测和控制管理 唐世权 (上海华虹 NEC 电子有限公司，上海 201206) 摘要 就半导体工厂超纯水制造系统中的一个重要污染物 TOC进行 了比较全面的分析和说 明，阐述 了超纯水 制造系统中TOC的来源 、去除方法、检测手段 以及控制管理，对半导体工厂的制水管理人员有很好 的借鉴作用 。 关键词 T0C 去 除 检测 控制管理 TOC Removal,M onitorandRunningcontrolinUltrapureW aterTreatmentSystem TangShiquan (S 日∞ HongNECElectronicsCo，Shanghai201206,China) Abstract ThispaperintroducedtheimportantcontaminationofTOC inUltrapurewatertreatmentsystem，explained TOC~uree，mehto~ ofTOC removM，TOCmonitoringandrunningcontrolItwillpmvideexperienceforpersonsrunning Ultrapurewatertreatmentsystem insemiconductorfact0ry． Keywords TOC remove monitor urnningcontrol 随着半导体产业的发展，对清洗硅片用的超纯 面，①原水中含TOC；②回收水中含TOC；③制造系 水的纯度要求越来越高，在超纯水的残留杂质 中总 统本身产生的TOC。 有机碳 (TOC)的相对含量约 占9O％以上 ，实践证明， 原水一般都采用 自来水 ，TOC会 因为地 区、季 较高的TOC会影响器件的性能，比如氧化膜膜质低 节 、气候 的变化而有明显的变化 ，污染较少的地区 下、深度紫外氧化工艺中酸催化不 良等。本文就超纯 TOC会 比较低 ：冬季的TOC会显著上升 ；暴雨季节 水制造系统 中TOC的去除、检测和控制管理作了比 的TOC会明显高于晴好天气 ，上海地区的 自来水中 较介绍。 的TOC在 2—3．5mg~,之间。 1 超纯水制造系统中TOC的来源 为了节约用水 ．半导体工厂的纯水制造系统普 超纯水制造系统 中TOC的来源一般有三个方 遍会设有回收水处理 ，而回收水 的水质是影响纯水 投药到沉淀池出水浊度反馈约需 2h．调节滞后严 4 小 结 重 ，浊度反馈形同虚设，建议在沉淀池前段设立浊度 流动电流混凝投药控制系统 以单一 的SCD值 反馈或采用 FCD等方式反馈控制投药量 ，加快 SCD 控制投药 ，具有设备简单 ，调节快速 的优点，但在 日 的调节速度 。 常的运行管理中，还需要根据具体的水质条件 、净水 (2)目前该系统采用流量控制频率，SCD检测 系统的特点和运行机制制定相应的运行方案和管理 值控制冲程．对于水厂取水流量 比较稳定 ，而原水浊 维护措施 ，进行合理的设置和科学的维护，并在生产 度