利用单分子层掺杂技术并结合微波和CO2 雷射退火制作掺杂层小於5奈
CO
2
5
NANO COMMUNICATION 23 No. 1
33
CO2
5
Poly Si Junctionless Transistors with Sub-
5nm Conformally Doped Layers by Molecular
Monolayer Doping and Microwave
Incorporating CO2 Laser Annealing
1,2 1,2 1,2 1 1 1 1 1
1
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