涂胶显影技术改进对光刻工艺的影响!.pdfVIP

■鲁‘j塑鬯圈鲤鬯豳豳鲤糊夔鲤翼鲤豳团黼量愚i葛玉基基蠢瑟墓垦 主量堕型堕土至墨堕鱼圭昱签剑遣王茎皇堡鱼 涂胶显影技术改进对光刻工艺的影响 冯泉，周明祥，侯宗林 (南京电子器件研究所，江苏南京210016) 摘 要：影响光刻工艺的因素有很多，既有光刻机的因素，又有涂胶显影技术因素，而通过改造 光刻机来提高光刻工艺，往往价格非常高昂；所以改进涂胶显影技术就成为了提高光刻．Y-艺的一 种低廉而有效的手段。介绍了对涂胶显影技术改进，且分析了其对光刻工艺的影响。 关键词：涂胶显影；光刻工艺；工艺改进 中图分类号：TN307 文献标识码：B and Introduction CoatingDevelopingTechnology Affects Process Lithography FENG Quan，ZHOUMingxiang，HOUZonglin ElectronicDevices 21001 (Nanjing Institute，Nanjing6，China) Abstract：Thereare factorsthataffect as machine， many lithographyprocess，suchlithography and isvery toimprovelithographyprocessby coastingdevelopingtechnology．Itexpensive to of and coatingdevelopingtechnology improvementlithographymachine．Therefore，improvement hasbecomea andeffectivemeansto adetail lithographyprocess．Thispapergives cheap improve introductionofthe of and its technologyanalyzesimportantimpact improvementcoatingdeveloping on lithographyprocess． and improvement． Keywords：Coatingdeveloping；Lithographyprocess；Process nln 在半导体制造过程中，光刻技术是集成电路 的发展也进入了一个崭新的阶段。近几年248 的关键技术之一，在整个产品制造中是重要的经 和193nlTl技术的发展带动了IC产业进一步的辉煌。 济影响因子，光刻成本占据了整个制造成本的 光刻