第7篇有机电致发光器件的制备工艺.pdfVIP

制备工艺 OLED的制备工艺主要涉及薄膜工艺和表面处理技术，制备过程 中的关键技术包括ITO基片的处理、有机/聚合物功能薄膜的制备和 封装技术。 对ITO薄膜进行处理是为了改变ITO的表面状态，使得ITO的表 面能级与空穴传输层的能级相匹配。现在常用的ITO表面处理方法 有紫外线—臭氧（UV-Ozone）处理和等离子体（piasma）处理两种。 有机功能薄膜的制备工艺技术可以分为干法和湿法两种。有机 小分子器件的制备，则通常采用真空热蒸发技术，称之为干法工艺。 在制备聚合物器件时，常常采用旋转涂敷（Spin coating）和喷墨 打印技术（Ink-jet printing），称之为湿法工艺。 在OLED制备过程中的另一个关键技术就是，在最后封装之前 对器件的预封装。一般采用无机材料，比如用SiO 、MgF 和In O 2 2 2 3 等对器件进行预封装。然后再用环氧树脂和平板玻璃进行最终封装 7.1 有机小分子器件的制备工艺 ITO玻璃 ITO表面预 有机薄膜 清洗 处理 蒸镀 测 试 封 装 金属电极 蒸镀 小分子OLED器件的制备过程 1. ITO玻璃的清洗 因有机层与ITO间的界面对发光性能的影响至关重要，ITO基片 在使用之前必须仔细清洗，以彻底清除基片表面的污染物。这些污 染物通常可以分为四类：有形颗粒，例如尘埃等；有机物质，例如 油脂和涂料等；无机物质，例如碱、盐和锈斑等；微生物机体。 清除基片表面污染的方法有：化学清洗法、超声波清洗法。 化学清洗：可采用洗洁剂、乙醇、丙酮清洗，以清除油、润滑 脂、脂肪和其它有机污染物。常用的有机溶剂还有氯仿和四氯化碳 等。 超生清洗：利用其超声空化作用，使存在于液体中的微气泡在 声场的作用下振动，气泡迅速增长然后闭合，在气泡闭合时产生激 波，在气泡周围产生上千个大气压力，破坏不溶性污物使它们分散 于溶液中，从而使表面得以净化。 如首先用洗洁精棉球擦洗ITO玻璃，擦掉ITO表面的污渍，再用 去离子水将洗洁精冲洗干净；然后分别将ITO玻璃在甲苯、丙酮、 乙醇溶液中超声清洗 ，用去离子水漂洗干净；最后用红外灯烘干， 在放入真空室进行预处理。 2. ITO玻璃的表面预处理 在制备OLED时，主要采用ITO玻璃作为透明的空穴注入电极。 ITO的表面特性直接影响到整个器件的发光行为，要求ITO有较高的 功函数移减小空穴的注入势垒，还要求ITO表面平整以保证电场的 均匀性。 目前已经确认比较好的处理方法是紫外线—臭氧处理和O2等离子 处理，主要作用为（1）除掉ITO表面的残留有机物；（2）促进ITO 表面氧化从而增加的功函数。另外，采用低能氧离子束以一定角度 （45度）轰击ITO基片，也收到很好的效果。 一般经脱脂后的ITO表面功函数为4.6eV，经处理过的ITO表面 功函数可达5.0eV以上。 3. 有机薄膜的制备 有机薄膜采用真空蒸镀法沉积成膜。在真空中加热蒸发容器中 待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气 流，入射到固体衬底或基片的表面，凝结形成固态薄膜。 金属阴极 电子传输层 发光层 空穴传输层 ITO 阳极 蒸镀包括以下三个基本过程： (1)加热蒸发过程 包括由凝结相变为气相（固相或液相→气相）的相变过程。加 热过程中，有机材料在受热的时候，一般要经过溶化过程，然后在 蒸发出去。也有的材料由于熔点较高，往往不经过液相而直接升华； (2)气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输送 即这些离子