TFT用掩模版及TFT_LCD阵列工艺.pdf

技术专栏 Technology Column doi :103969/ jissn1003353x201006002 TFT 用掩模版与 TFTLCD 阵列工艺 1 ,2 2 2 2 2 2 1 李文波 , 王刚 , 张卓 , 胡望 , 刘宏宇 , 邵喜斌 , 徐征 ( 1 北京交通大学 光电子技术研究所 , 北京 100044 ; 2 京东方科技集团股份有限公司 技术研发中心 , 北京 100015) 摘要 : 薄膜晶体管液晶显示器 ( TFTLCD) 产业经过 20 年的发展 , 其规模已经远远超出 10 年前的预想 , 技术发展也呈现出加速进步的趋势 。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版 的制作精度 , 对其市场价格也造成了不小的冲击 。在 TFTLCD 阵列基板制造方面 , 4 掩模版光刻 工艺技术逐渐成为当今主流 , 而 3 掩模版光刻工艺因其技术难度大 、良品率低 , 目前还掌握在少 数几家 TFTLCD 厂商手中。通过对掩模版的国内外市场行情 、技术进展以及掩模版数 目与 TFT LCD 阵列工艺的关系作全面的阐述 , 指出加强 TFTLCD 掩模版等配套材料的自主研发 、采用更 加先进的制造技术是简化生产工艺 、降低生产成本的有效手段 , 也是我国 TFT LCD 产业下一步 努力发展的方向。 关键词 : 掩模版 ; 薄膜晶体管液晶显示器 ; 阵列工艺 ; 技术进展 ; 市场行情 中图分类号: TN3215 ; TN3056 　　文献标识码 : A 　　文章编号: 1003353X (2010) Mask Used for TFT and TFTLCD Array Technology 1 ,2 2 2 2 2 2 1 Li Wenbo , Wang Gang , Zhang Zhuo , Hu Wang , Liu Hongyu , Shao Xibin , Xu Zheng ( 1Institute of Optoelectronic Technology , Beijing Jiaotong University , Beijing 100044, China ; ) 2. Technology R D Center, BOE Technology Group Co. , Ltd . , Beijing 100015, China Abstract : TFTLCD (thin film transistor liquid crystal display)