霍尔无栅离子源的研制及应用 - 表面技术.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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霍尔无栅离子源的研制及应用 - 表面技术

王稳奇等霍尔无栅离子源的研制及应用暋暋暋58 暋霍尔无栅离子源的研制及应用 , 王稳奇朱昌 ( , ) 西安工业大学北方信息工程学院西安 710025 [ ] , , , 摘要基于离子束辅助镀膜技术自主研制了一款新型霍尔无栅离子源利用该离子源采取离子束辅暋暋暋暋 , , 。 : 助沉积方法在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试测试结果表明所研 , 、、制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜其膜层强度附着性耐腐蚀性以及光学性质都比常规热蒸发工艺所制得的薄膜有明显改善。 [ ] ; ; 关键词霍尔无栅离子源离子束辅助沉积光学薄膜暋 [中图分类号] ; [文献标识码] [文章编号] ( ) TG174.444 TB43暋暋暋 A暋暋暋 1001灢3660201202灢0058灢03 TheDevelomentandA licationofHallNoGateIonSource p pp , WNAGWen灢iZHUChan q g ( , 暞 , 暞 , ) NorthInstituteofInformationEnineerin XianTechnoloicalUniversit Xian710025 China g g g y [ ] , Abstract暋Basedonionbeamassisteddeositiontechniue newt eofHallofindeendentnon ridionsource p q yp p g 灢灢 , , wasdeveloed takein advantaeoftheionsourceavarietofoticalthinfilmswerecoatedonthelasssubstratewith p g g y p g ionbeamassisteddeositionmethod.B varioustestin oftheoticalroertiesofthinfilmsitshowsthatthecoatin p y g p p p