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基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造.pdf
第7卷第2期 纳米技术与精密T程 V01.7No.2
andPrecision Mar.2009
2009年3月 NanotechnologyEngineering
Basedon
Micro/NanoFabrication
Multi—Layer Synchron
Radiation
Lithography
乙I Susumu3
Yi.guil'_.SUGIYAMA
(1.KeyLaboratoryforThinFilm Jiaotong
ofMicro/NanoFabrication
University,Shanghai200240,China;2.NationalKeyLaboratory Technology。
ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai200240,China;3.DepartmentofMierosystems。
Ritsumeikan
University,Kusatsu/Shiga525-8577,Japan)
as inthe and
materials。such attractedinterestsresearch
Abstract:Polymer polymethylmethacrylate(PMMA).havegreat
their and
of circuits(IC)andmicro—electro-mechanicalto lowcost
developmentintegrated systems(MEMS)duerelatively
this fabricatedaPMMA—based micro/nanostructure radiation
easyprocess.Inpaper.we multi-layer byX—raysynchron
servesforsomedeviceswith suchasmicroactuators.The micro
lithography.which moving designedmulti-layer
pam
structureconsistsof140unitsof withthe andwidthof
interdigitatedparallel fingergap
capacit
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